[实用新型]一种电弧熔射处理设备的支撑装置有效

专利信息
申请号: 202021227033.7 申请日: 2020-06-29
公开(公告)号: CN212894929U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 刘得志 申请(专利权)人: 东莞市世平光电科技有限公司
主分类号: C23C4/131 分类号: C23C4/131;H01L21/67
代理公司: 东莞市明诺知识产权代理事务所(普通合伙) 44596 代理人: 陈思远
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 电弧 处理 设备 支撑 装置
【权利要求书】:

1.一种电弧熔射处理设备的支撑装置,包括底座(3),其特征在于:所述底座(3)的上方设有升降机构(2)以及安装在所述升降机构(2)顶端的夹持机构(1),所述夹持机构(1)包括工作台(11),所述工作台(11)内开设有顶槽(111),所述顶槽(111)内设置有顶块(112),所述顶块(112)上滑动连接有两个呈对称分布的滑动座(113),所述工作台(11)的两侧顶端均设置有顶出气缸(122),所述顶出气缸(122)的活塞杆与所述滑动座(113)的外壁固定连接,其中一个所述滑动座(113)的顶端外壁安装有电机(13),所述电机(13)的输出端设有螺丝杆(131),所述螺丝杆(131)穿过所述滑动座(113)并螺纹连接有夹座(132),另一个所述滑动座(113)的内侧紧密焊接有连接块(135),所述连接块(135)远离所述滑动座(113)的一端焊接固定有固定座(133)。

2.根据权利要求1所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:所述夹座(132)整体呈U字型结构,且与所述螺丝杆(131)转动连接,所述固定座(133)与所述夹座(132)大小相等且相互对称,所述固定座(133)的底端紧密焊接有置物板(134)。

3.根据权利要求1所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:两个所述顶出气缸(122)均固定在安装座(12)上,所述安装座(12)呈L型结构,且下方设有两个螺栓(121),所述安装座(12)通过所述螺栓(121)固定安装在所述工作台(11)的上表面。

4.根据权利要求1所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:所述升降机构(2)由若干个安装板(21)、与所述安装板(21)交叉设置的若干个安装条(22)以及设在所述安装板(21)和所述安装条(22)连接处的转轴(23)构成。

5.根据权利要求4所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:所述转轴(23)位于所述安装板(21)和所述安装条(22)的内部,所述转轴(23)的两端设有限位块(231),所述限位块(231)紧贴在所述安装条(22)的外表面。

6.根据权利要求5所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:所述限位块(231)的直径大于所述转轴(23)的直径。

7.根据权利要求5所述的电弧熔射处理设备的支撑装置,其特征在于:最顶端和最低端的所述安装板(21)的一侧铰接有连接板(24),顶端的所述连接板(24)的上表面与所述工作台(11)的下底面固定连接,底端的所述连接板(24)的下底面与所述底座(3)的上表面固定连接。

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