[实用新型]防撞装置、工件台系统及光刻机有效
申请号: | 202021248834.1 | 申请日: | 2020-06-30 |
公开(公告)号: | CN212586694U | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 张雯 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 工件 系统 光刻 | ||
本实用新型的防撞装置、工件台系统及光刻机,其中,防撞装置中的防撞组件中设置了可伸缩的防撞杆,并使防撞杆能够牵制第一滑块和第二滑块。因此当防撞杆的两端至少其中之一被撞击时,防撞杆可牵动第一滑块朝向第二滑块运动和/或牵动第二滑块朝向第一滑块方向运动,并压缩与第一滑块和第二滑块连接的可伸缩的缓冲杆,缓冲杆被压缩后产生反方向的应力以抵消防撞杆被撞击时产生的撞击力,实现双向防撞功能。而本实用新型的防撞装置,其将双向缓冲功能集成在一个防撞装置内,因此提升了本实用新型的防撞装置、安装上述防撞装置的工件台及光刻机的集成度,提升了空间利用率。
技术领域
本实用新型涉及光刻技术领域,尤其是涉及一种防撞装置及包含该防撞装置的工件台系统及光刻机。
背景技术
光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序,它是将一系列掩模板上的图形通过曝光依次转移到基板相应层上的工艺过程,被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
光刻机包含多个工件台,在具体光刻时需要调整各个工件台的位置。不可避免的,光刻机的工件台在运行时可能发生多种情况的碰撞,为了保护光刻机内尤其是粗微动工件台的各精密部件不在碰撞中被损毁,设计可靠有效的防撞装置是必不可少的。目前,工件台的双向防撞功能是由两个独立的防撞装置来实现,而使用两个独立的防撞装置来实现双向防撞功能时,防撞装置通常安装在工件台运动路线两端的位置上,此时工件台即会被两个独立的防撞装置限制在单一的路线上进行运动工作,因此导致了工件台运动路线存在单一性的问题。
为解决上述运动路线单一性的问题,发明人将上述两个防撞装置安装在工件台上以实现双向防撞,但将两个防撞装置安装在工件台的两端上实现双向防撞功能时,则存在结构不紧凑,占用空间过大的问题。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种防撞装置、工件台系统及光刻机,以解决现有技术中防撞装置、使用上述防撞装置的工件台及光刻机结构不紧凑,占用空间过大的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种防撞装置,包括至少一个防撞组件,所述防撞组件包括:
安装框,所述安装框内具有安装槽;
第一滑块和第二滑块,所述第一滑块和所述第二滑块沿着预定方向设置在所述安装槽内,并且分别位于所述安装槽在所述预定方向上的两端;
缓冲杆,所述缓冲杆两端分别与所述第一滑块和所述第二滑块连接,且所述缓冲杆在所述预定方向上可伸缩设置;以及,
防撞杆,所述防撞杆沿所述预定方向可移动穿过所述安装框,并且所述防撞杆牵制所述第一滑块及所述第二滑块,以在外力撞击所述防撞杆的两端至少其中之一时,牵动所述第一滑块朝向所述第二滑块运动和/或牵动所述第二滑块朝向所述第一滑块方向运动,并使所述缓冲杆受挤压收缩。
可选的,所述安装框包括多个侧板,多个所述侧板围设形成所述安装槽。
可选的,所述防撞杆包括第一防撞杆,所述第一防撞杆包括第一子防撞杆和设置在所述第一子防撞杆上的推块,以及靠近所述第一滑块的所述侧板上设有第一通孔;
所述第一子防撞杆可移动穿过所述第一通孔及所述第一滑块,在所述第一子防撞杆被撞击时,所述第一子防撞杆带动所述推块移动,并使所述推块与所述第一滑块抵接,以推动所述第一滑块朝向所述第二滑块方向运动。
可选的,所述第一防撞杆还包括第一连接件,所述推块套设在所述第一子防撞杆上,所述第一连接件穿过所述推块和所述第一子防撞杆,以将所述推块固定在所述第一子防撞杆上。
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