[实用新型]一种二极管酸洗装置有效
申请号: | 202021280939.5 | 申请日: | 2020-07-02 |
公开(公告)号: | CN212570935U | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 刘美侠;孙延永;汪勇;刘立露;仲伟松 | 申请(专利权)人: | 宿迁学院 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/329 |
代理公司: | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 张铁兰 |
地址: | 223800 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 酸洗 装置 | ||
1.一种二极管酸洗装置,包括酸洗池和加热装置,所述酸洗池的底部设置有支架,所述酸洗池的内设置有温度计,所述酸洗池的左侧设置有水箱,所述水箱内设置有所述加热装置,所述酸洗池的外壁设置有夹层,所述水箱的侧面设置有出水管,所述水箱的侧面设置有进水管,所述出水管与所述进水管分别与所述夹层相连接,所述酸洗池的上方设置有物料架,所述物料架一侧开有若干第一凹槽,所述物料架开有所述第一凹槽的一侧的一端设置有第一齿轮,所述第一齿轮上设置有电机,所述第一齿轮上设置有链条,所述链条上设置有第二齿轮,所述第一凹槽上设置有物料框,所述物料框上设置有承重杆,所述承重杆的一端设置有第三齿轮。
2.根据权利要求1所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述水箱上方设置有注水口,所述进水管设置在所述水箱侧面的上方,所述出水管设置在所述水箱侧面的下方。
3.根据权利要求2所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述出水管上设置有水泵。
4.根据权利要求1所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述电机进行正转反转周期运动。
5.根据权利要求1所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述第三齿轮两侧分别设置有限位片,所述承重杆的末端设置有橡胶把手。
6.根据权利要求1所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述物料架的另一侧设置有若干个第二凹槽,所述第二凹槽和所述第一凹槽一一对应。
7.根据权利要求1所述的一种二极管酸洗装置,其特征在于:所述酸洗池底部设置有废液流出阀。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造