[实用新型]一种二极管酸洗装置

说明书

本实用新型公开了一种二极管酸洗装置，包括酸洗池和加热装置，酸洗池的底部设置有支架，酸洗池的左侧设置有水箱，水箱内设置有加热装置，酸洗池的外壁设置有夹层，水箱的侧面设置有出水管，水箱的侧面设置有进水管，出水管与进水管分别与夹层相连接，酸洗池的上方设置有物料架，物料架一侧开有若干第一凹槽，物料架的另一侧设置有若干个第二凹槽，物料架开有第一凹槽的一侧的一端设置有第一齿轮，第一齿轮上设置有电机，第一齿轮上设置有链条，链条上设置有第二齿轮，第一凹槽上设置有物料框，水箱上方设置有注水口，进水管设置在水箱侧面的上方，出水管设置在水箱侧面的下方，该装置结构简单，可有效提高二极管的清洗效果。

技术领域

本实用新型属于半导体生产领域，特别涉及一种二极管酸洗装置。

背景技术

半导体的出现大大推动了科技的发展，大到航天飞机小到电视机都离不开半导体的身影，半导体逐渐成为了人们生活生产中不可缺少的一部分，其中二极管作为半导体当中最基础的一种得到了最为广泛的应用，几乎无处不见，但就是这小小的二极管却有着及其严格的生产步骤及要求，酸洗作为洗去污物的职责却很容易不被重视，直接将焊接后的芯片放入酸洗池中清洗，容易出现堆叠状况，会导致部分位置未经酸洗，使得酸洗效果不佳。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种二极管酸洗装置，解决现有的酸洗设备仅通过浸泡来实现酸洗的功能，导致堆叠部分接触不到清洗液，无法进行清洗，使得清洗效果不佳的问题。

本实用新型采用如下技术方案：

一种二极管酸洗装置，包括酸洗池和加热装置，所述酸洗池的底部设置有支架，所述酸洗池的内设置有温度计，所述酸洗池的左侧设置有水箱，所述水箱内设置有所述加热装置，所述酸洗池的外壁设置有夹层，所述水箱的侧面设置有出水管，所述水箱的侧面设置有进水管，所述出水管与所述进水管分别与所述夹层相连接，所述酸洗池的上方设置有物料架，所述物料架一侧开有若干第一凹槽，所述物料架开有所述第一凹槽的一侧的一端设置有第一齿轮，所述第一齿轮上设置有电机，所述第一齿轮上设置有链条，所述链条上设置有第二齿轮，所述第一凹槽上设置有物料框，所述物料框上设置有承重杆，所述承重杆的一端设置有第三齿轮。

进一步的，所述水箱上方设置有注水口，所述进水管设置在所述水箱侧面的上方，所述出水管设置在所述水箱侧面的下方，便于夹层与水箱内水进行循环。

进一步的，所述出水管上设置有水泵，加快循环速度使得酸洗池内液体温度均衡。

进一步的，所述电机进行正转反转周期运动，带动物料框摆动提高清洗质量。

进一步的，所述第三齿轮两侧分别设置有限位片，所述承重杆的末端设置有橡胶把手，方便拿取和固定物料框。

进一步的，所述物料架的另一侧设置有若干个第二凹槽，所述第二凹槽和所述第一凹槽一一对应，固定物料框，防止左右摆动。

进一步的，所述酸洗池底部设置有废液流出阀，便于更换清洗液。

本实用新型的优点在于：该装置结构简单、方便实用，采用热水循环水浴加热清洗液的方法，使得清洗液温度均匀，将焊接好的芯片放入到物料框中再放入酸洗池内，方便拿取，物料框在电机的带动下摇摆，使得芯片充分接触清洗液，防止出现堆叠清洗不到的情况，同时带动清洗液运动，使清洗液浓度分布均匀，提高了清洗质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型物料框的结构示意图。