[实用新型]水平湿制程治具有效

专利信息
申请号: 202021291348.8 申请日: 2020-07-04
公开(公告)号: CN212677465U 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 黄乃为;林文彬 申请(专利权)人: 联策科技股份有限公司;雷冈科技股份有限公司;迅得机械股份有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 李林
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 水平 湿制程治具
【说明书】:

实用新型提供一种水平湿制程治具,其包括弧面形成本体以及连接于弧面形成本体的定位件,弧面形成本体具有弧面基准部。弧面基准部的侧面呈弧形状。可挠性平面基板贴服于弧面基准部的上方表面,形成弧状可挠性基板。定位件供弧状可挠性基板定位于弧面基准部,使弧状可挠性基板形成所设定的弧面,可降低因药液滞留而产生的水坑效应。

技术领域

本实用新型涉及一种水平湿制程治具,尤指将可挠性平面基板贴服于治具的弧面基准部,并形成弧面后再定位为预设的弧状可挠性基板的技术领域。

背景技术

可挠性基板缺乏刚性,极易弯曲变形或折损。因此,在加工制程中,必需将其置入夹框治具中,利用夹框治具的刚性结构,来保护可挠性基板在进行运送与制程加工中免于变形与折损。

续就化学湿制程中,夹框治具是平面治具结构,可挠性基板置入平面治具中之后,可挠性基板为平面基板方式运作,平面基板会通过药液作用形成欲制得的电路图案。然而,平面基板在运作过程中,使得药液滞留在可挠性基板的部分区块上,尤以中间部位易产生水坑效应,导致药液作用不一致,使其产生不均匀现象,进而造成制程上制品规格控管不易及不合格率提升。另,目前技术的平面夹框治具其机构设计都较为复杂、制造成本高,又较不易维护,且都仍无法解决水坑效应问题。为此,如何解决上述现有技术的问题与缺失,即为相关业者所亟欲研发的课题所在。

实用新型内容

本实用新型的主要目的乃在于,利用弧状治具让可挠性平面基板呈现弧状可挠性基板后,于湿制程运作过程中,能凭借重力作用让药液得以快速向弧状可挠性基板的左右两侧曳流,使药液能够均匀分布于弧状可挠性基板的表面,以减少基板上的部分区块因药液滞留所造成的水坑效应。

本实用新型的次要目的乃在于,将平面治具结构设计为弧状治具,使本实用新型结构设计整体更为单纯,制造成本更低,进而让此弧状治具于保养维护上更加简易及具便利性。

为达上述目的,本实用新型提供一种水平湿制程治具,其特征在于,包括弧面形成本体以及连接于该弧面形成本体的定位件,该弧面形成本体具有弧面基准部,该弧面基准部的侧面呈弧形状,该弧面基准部供可挠性平面基板贴服其上方表面,形成弧状可挠性基板,该定位件供该弧状可挠性基板定位于该弧面基准部,使该弧状可挠性基板形成所设定的弧面。

所述的水平湿制程治具,其中:该定位件具有嵌合部,该嵌合部连接于该弧面基准部的侧部,该弧状可挠性基板置入该嵌合部以定位于该弧面基准部的上方表面。

所述的水平湿制程治具,其中:该弧面基准部包含有第一侧边、中央弧面部及相对于第一侧边的第二侧边,且该中央弧面部的中心线为最高弯曲位置,再朝向该第一侧边及该第二侧边逐渐降低高度,直至该第一侧边及该第二侧边为最低位置。

所述的水平湿制程治具,其中:该弧面形成本体具有中空部,于该弧面形成本体相对两侧横跨该中空部连接有支撑肋。

所述的水平湿制程治具,其中:该弧面形成本体的支撑肋为复数间隔设置。

所述的水平湿制程治具,其中:该弧面形成本体的周边设置有复数个贯穿弧面形成本体上下表面的泄流孔,且该泄流孔一侧连通于该嵌合部。

所述的水平湿制程治具,其中:该定位件具有滑轮槽,该弧面形成本体的周边设置有复数个贯穿该弧面形成本体的上下表面的泄流孔,该滑轮槽与复数个泄流孔相连通。

所述的水平湿制程治具,其中:该弧面形成本体还设置有复数个堆叠肋,复数个堆叠肋邻近该弧面基准部,利用复数个堆叠肋将相邻的该治具相叠合。

所述的水平湿制程治具,其中:该定位件还包括复数个间隔设置的夹具。

本实用新型的优点是:可降低因药液滞留而产生的水坑效应。

底下凭借具体实施例详加说明,当更容易了解本实用新型的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。

附图说明

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