[实用新型]光学级CVD金刚石膜片的制备系统

权利要求书

1.一种光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：包括反应室(100)，反应室(100)内的上部安装有等离子炬(400)，反应室(100)内的下部设置有沉积区(600)；等离子炬(400)包括引弧嘴(402)，引弧嘴(402)内部的中心处设置有阴极(401)，引弧嘴(402)与阴极(401)之间设置有阳极通道(403)，阳极通道(403)上安装有氩气喷嘴(404)，等离子炬(400)底部设置有阳极喷嘴(500)；等离子炬(400)外周设置有励磁线圈(300)；等离子炬(400)与励磁线圈(300)之间具有间隙；反应室(100)外周设置有冷却腔(200)；冷却腔(200)主体成U形；冷却腔(200)的U形两侧区域一直延伸至等离子炬(400)与励磁线圈(300)之间的间隙内形成冷却用的通道；冷却腔(200)的U形两侧区域内螺旋分布设置有侧冷却管(201)；冷却腔(200)的底部区域内螺旋分布设置有下冷却管(202)；左右两侧的侧冷却管(201)下端分别与下冷却管(202)的左右两端连通；侧冷却管(201)、下冷却管(202)内有冷却水；沉积区(600)内可升降设置有升降台(602)；升降台(602)上方转动设置有基盘(601)；基盘(601)底面中央固定设置有基座(6011)。

2.根据权利要求1所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：沉积区(600)内于升降台(602)下方设置有固定板(605)；固定板(605)上端面中央转动设置有主齿轮(606)；主齿轮(606)外周啮合有至少两个副齿轮(607)；副齿轮(607)下端面中央固定设置有转轴，转轴下端通过轴承安装于固定板(605)上；升降台(602)外侧端面上固定安装有滑块(603)；反应室(100)内侧壁固定设置有滑轨(101)，滑块(603)与滑轨(101)滑动适配；滑块(603)下端面开设有深螺孔(6031)，深螺孔(6031)内螺纹连接有丝杠(608)；丝杠(608)下端与副齿轮(607)上端面中央固定连接。

3.根据权利要求1所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：基座(6011)底部可转动安装有滑轮(6012)；升降台(602)上端面中央设置有与滑轮(6012)对应适配的环形滑道(6022)。

4.根据权利要求1所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：升降台(602)上端面中央固定设置有限位环(6021)；限位环(6021) 的内侧壁与基座(6011)外侧壁间隙配合；限位环(6021)上端面位于基盘(601)下方。

5.根据权利要求2所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：固定板(605)上端面中央通过支腿(6041)固定连接有限位中心块(604)；限位中心块(604)外侧端面与滑块(603)内侧端面滑动连接。

6.根据权利要求5所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：反应室(100)内底壁上固定安装有第二电机(610)，第二电机(610)位于固定板(605)下方；第二电机(610)输出轴朝上穿过固定板(605)与主齿轮(606)下端面中央固定连接；升降台(602)下端面中央固定安装有第一电机(609)；第一电机(609)输出轴朝上穿过升降台(602)与基座(6011)下端面中央固定连接。

7.根据权利要求6所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：反应室(100)上部分别通过管道连通有真空泵(800)、进气装置(1100)；反应室(100)内壁固定安装有红外测温仪(1000)。

8.根据权利要求7所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：限位中心块(604)上端面固定安装有位置传感器(1200)。

9.根据权利要求8所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：反应室(100)外包覆有外壳(700)；外壳(700)表面固定安装有PLC控制器。

10.根据权利要求9所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统，其特征在于：等离子炬(400)、阳极喷嘴(500)、第一电机(609)、第二电机(610)、真空泵(800)、红外测温仪(1000)、进气装置(1100)、位置传感器(1200)、PLC控制器分别通过电线与电源(900)电性连接；等离子炬(400)、真空泵(800)、红外测温仪(1000)、进气装置(1100)、位置传感器(1200)分别通过电线与PLC控制器信号连接。