[实用新型]防止冷点偏移装置以及光学晶体生长设备有效
申请号: | 202021330222.7 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN212713843U | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 杨勇;赖维明 | 申请(专利权)人: | 成都东骏激光股份有限公司 |
主分类号: | C30B15/20 | 分类号: | C30B15/20;C30B28/10 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 毕翔宇 |
地址: | 611600 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防止 冷点 偏移 装置 以及 光学 晶体生长 设备 | ||
1.一种防止冷点偏移装置,其特征在于,包括:坩埚、固定构件以及加热件;
所述坩埚设置在所述固定构件上,所述加热件环绕所述坩埚设置;
所述固定构件能够固定所述坩埚以使所述坩埚与所述加热件同轴;
所述固定构件包括托盘以及第一固定部;
所述第一固定部沿所述托盘的周向设置在所述托盘的边沿,以使所述第一固定部与所述托盘之间形成有第一安装空间,所述坩埚的底部坐落在所述第一安装空间内,所述第一安装空间用于固定所述坩埚。
2.根据权利要求1所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,还包括钼圆筒,所述钼圆筒环绕所述加热件设置,所述钼圆筒能够将所述加热件发出的热反射并聚集至所述坩埚。
3.根据权利要求2所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,还包括固定筒,所述固定筒套设在所述坩埚的外侧壁。
4.根据权利要求3所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,所述固定构件还包括第二固定部;
所述第二固定部沿所述第一固定部的周向设置在所述第一固定部的边沿,以使所述第二固定部与所述第一固定部之间形成有第二安装空间,所述固定筒的底部位于所述第二安装空间内,所述第二安装空间用于固定所述固定筒。
5.根据权利要求2所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,还包括底座,所述加热件、所述钼圆筒以及所述坩埚均设置在所述底座上。
6.根据权利要求5所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,所述固定构件还包括支撑座,所述支撑座的一端设置在所述底座上,且另一端连接所述托盘;
所述支撑座、所述托盘以及所述加热件同轴设置。
7.根据权利要求3所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,所述固定筒为石英固定筒。
8.根据权利要求1所述的防止冷点偏移装置,其特征在于,所述加热件为电加热器。
9.一种光学晶体生长设备,其特征在于,包括权利要求1至8中任一项所述的防止冷点偏移装置。
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