[实用新型]图像传感器的像素结构有效
申请号: | 202021343827.X | 申请日: | 2020-07-10 |
公开(公告)号: | CN212967705U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 赵立新;付文;黄琨 | 申请(专利权)人: | 格科微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像传感器 像素 结构 | ||
1.一种图像传感器的像素结构,其特征在于,
包括多个像素子阵列,每个像素子阵列中包括多个像素单元;
其中,像素子阵列之间设置有背面深槽隔离结构;
同一像素子阵列内部的多个像素单元之间没有背面深槽隔离结构。
2.如权利要求1所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列之间既有背面深槽隔离结构,又有离子注入隔离区域以钝化背面深槽隔离结构表面,减少刻蚀所带来的暗电流;所述同一像素子阵列内部的多个像素单元之间仅有离子注入隔离区域,用以分隔相邻像素单元的感光二极管,减少像素单元之间的串扰。
3.如权利要求2所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列内部的多个像素单元之间的离子注入隔离区域的深度小于像素单元的感光二极管的深度,以使所述像素子阵列内部的多个像素单元的感光二极管底部相互连接,增加感光二极管体积,提高满阱容量。
4.如权利要求1所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列内部的多个像素单元分别具有相同的微透镜,或者分别具有不同的微透镜,或者共用一个微透镜。
5.如权利要求1所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列内部的多个像素单元呈M×N阵列排布,M和N为大于等于2的自然数。
6.如权利要求1所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列内部的多个像素单元具有相同或不同的滤光层。
7.如权利要求2所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述像素子阵列之间的背面深槽隔离结构处于离子注入隔离区域之中。
8.如权利要求2所述的图像传感器的像素结构,其特征在于,所述离子注入隔离区域为P型掺杂区域。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的