[实用新型]一种硅片清洗机用抛动装置有效

专利信息
申请号: 202021354609.6 申请日: 2020-07-11
公开(公告)号: CN212856920U 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 薛佳勇;王海军;薛佳伟 申请(专利权)人: 天津众晶半导体材料有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市北*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 机用抛动 装置
【说明书】:

一种硅片清洗机用抛动装置,包括底座、电机支架、电机、减速器、偏心轮、动力横杆、上支架、背板、抛动孔、滑杆、限位机构、开关支架、行程开关、抛动臂、垫块,底座上固定安装有电机支架,电机支架上固定安装有电机,电机的输出轴与减速器相连,减速器的输出轴上安装有偏心轮,底座上方设有上支架,上支架通过背板与底座相连接,底座与上支架之间安装有滑杆,滑杆上设有限位机构,动力横杆下侧的背板上固定安装有开关支架,开关支架上设有行程开关,行程开关与PLC控制系统电连接。本实用新型优化了整个硅片清洗机的运行过程,提升了单晶硅片在清洗工序中的安全系数,也更利于机械手提取和放置硅片工装的联动控制,提升了系统的工作效率。

技术领域

本实用新型涉及一种抛动装置,尤其涉及一种硅片清洗机用抛动装置。

背景技术

随着清洗行业的不断发展,越来越多的行业和企业运用到了超声波清洗机。单晶硅片加工过程中,需经过清洗的工序,此工序用超声波清洗机进行,超声波清洗机原理是由超声波发生器发出的高频振荡信号,通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质--清洗溶剂中,超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射,使液体流动而产生数以万计的直径为50-500μm 的微小气泡,存在于液体中的微小气泡在声场的作用下振动。这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长,而在正压区,当声压达到一定值时,气泡迅速增大,然后突然闭合。并在气泡闭合时产生冲击波,在其周围产生上千个大气压,破坏不溶性污物而使他们分散于清洗液中,当团体粒子被油污裹着而黏附在清洗件表面时,油被乳化,固体粒子及脱离,从而达到清洗件净化的目的。为了达到更好的清洗效果,加入了抛动装置,为了更好的提升操作自动化,现在单晶硅片清洗机多集成了机械手放置单晶硅片工装、超声波清洗、抛动装置和机械手提取单晶硅片工装,统一由PLC控制。

现有的单晶硅片清洗机系统中,抛动装置由PLC控制开启关闭,关闭方式为通过接触器使抛动装置断电。这种抛动装置的关闭方式,使得抛动装置停止时的位置不确定、不稳定,不利于与机械手装置的相互配合,由于抛动装置停止时不一定停止在最低位,使得抛动装置处于一种非稳态状态,在抛动装置再次开启时,可能造成抛动装置抛动速度过快,进而损坏单晶硅片。

发明内容

根据以上技术问题,本实用新型提供一种硅片清洗机用抛动装置,包括底座、电机支架、电机、减速器、偏心轮、动力横杆、上支架、背板、抛动孔、滑杆、限位机构、开关支架、行程开关、抛动臂、垫块,所述底座上固定安装有电机支架,所述电机支架上固定安装有电机,所述电机的输出轴与减速器相连,所述减速器的输出轴上安装有偏心轮;

所述底座上方设有上支架,所述上支架通过背板与底座相连接,所述底座与上支架之间安装有滑杆,所述滑杆上设有限位机构;

所述限位机构又包括机构底板、限位块、限位孔,所述机构底板的上、下两端对称设有限位块,所述限位块上开有限位孔,所述滑杆纵向穿过限位孔;

与限位机构水平的位置设有动力横杆,所述动力横杆与机构底板固定连接,所述动力横杆底部与偏心轮对应的位置处设有垫块;

所述动力横杆前侧与动力横杆垂直安装有抛动臂,所述抛动臂的数量为N个,N≥1,所述背板上与抛动臂对应的位置设有抛动孔,所述抛动臂一端穿过抛动孔与动力横杆固定连接;

所述动力横杆下侧的背板上固定安装有开关支架,所述开关支架上设有行程开关,所述行程开关与PLC控制系统电连接。

进一步的,所述滑杆与限位机构的限位孔之间涂敷有润滑油。

进一步的,所述垫块的材质为耐磨陶瓷。

进一步的,所述垫块上涂敷有润滑油。

进一步的,所述偏心轮位于最低点时,所述动力横杆底部与行程开关相接触。

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