[实用新型]一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构

权利要求书

1.一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，包括安装架(1)，其特征在于，所述安装架(1)内腔的底部横向安装有隔板(2)，所述隔板(2)顶端的中部安装有超声波发生器(19)，所述安装架(1)顶端的中部安装有风机(8)，所述风机(8)的输出端穿过安装架(1)安装有导气架(6)，所述导气架(6)的底端连通有等距离排列的导气管(9)，所述导气管(9)底端的两侧均连通有分流管(27)，所述分流管(27)的底端安装有风刀架(28)，所述风刀架(28)底部的一侧安装有风刀(29)，所述安装架(1)顶端的两侧均安装有电动推杆(5)，所述电动推杆(5)的底端安装有固定块(10)，所述固定块(10)的底端安装有固定架(4)，所述固定架(4)的内部等距离安装有固定杆(11)，所述固定杆(11)的底端安装有连接杆(12)，所述连接杆(12)的底端安装有固定机构，所述固定机构的底端安装有硅片(21)，所述安装架(1)左侧的中部安装有进水管(3)，所述安装架(1)右侧的底部连通有排水阀(16)。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，其特征在于，所述固定机构包括安装在连接杆(12)底端的活动架(23)，所述活动架(23)的内部活动安装有活动块(24)，所述活动块(24)两侧的中部均开设有滑槽(25)，所述活动架(23)内腔的两侧均安装有滑块(26)，所述滑块(26)活动穿插在滑槽(25)的内部，所述活动块(24)的底端安装有固定座(22)，所述硅片(21)活动穿插在固定座(22)的内部。

3.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，其特征在于，所述安装架(1)右内壁的中部安装有调节座(13)，所述调节座(13)的内部安装有滑杆(14)，所述滑杆(14)的底部套装有滑套(15)，所述滑套(15)的一侧安装有连动杆(17)，所述连动杆(17)远离滑套(15)的一端安装有浮标(18)。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，其特征在于，所述导气架(6)的两侧均安装有固定套(7)，所述固定套(7)的顶端与安装架(1)的内壁相连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，其特征在于，所述安装架(1)正面的顶壁通过合页安装有挡板(30)。

6.根据权利要求1所述的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，其特征在于，所述隔板(2)两侧的内部均竖向安装有电磁阀(20)。