[实用新型]一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构

说明书

本实用新型涉及光伏技术领域，且公开了一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，包括安装架，所述安装架内腔的底部横向安装有隔板，所述隔板顶端的中部安装有超声波发生器，所述安装架顶端的中部安装有风机，所述风机的输出端穿过安装架安装有导气架，所述导气架的底端连通有等距离排列的导气管。本实用新型通过风机向导气架的内部通风，经过分流管进入到风刀架，通过风刀能够将风排出，并且能够对风施加一定的力，使排出的风具有一定的速度，增大其喷射速度，从而能够将硅片上的水分吹去，两个风刀呈一定的角度排列，能够对硅片表面的吹扫更加均匀，并且通过双风刀对硅片进行吹拂，提高了对硅片的吹扫效率。

技术领域

本实用新型涉及光伏技术领域，尤其涉及一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构。

背景技术

刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀；湿法刻蚀主要利用化学试剂与被刻蚀材料发生化学反应进行刻蚀。

在刻蚀过后的硅片需要对其表面进行清洗，并将使用风刀将其表面的水分吹去，能够对硅片进行吹干，但是现有的刻蚀风刀在对硅片表面进行吹干时，无法对硅片表面进行均匀吹扫，从而影响硅片的加工效率，针对上述情况提出一种用于硅片清洗的可使风刀结构来解决上述提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，如：现有的刻蚀风刀在对硅片表面进行吹干时，无法对硅片表面进行均匀吹扫，从而影响硅片的加工效率，而提出的一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种用于硅片清洗的刻蚀风刀结构，包括安装架，所述安装架内腔的底部横向安装有隔板，所述隔板顶端的中部安装有超声波发生器，所述安装架顶端的中部安装有风机，所述风机的输出端穿过安装架安装有导气架，所述导气架的底端连通有等距离排列的导气管，所述导气管底端的两侧均连通有分流管，所述分流管的底端安装有风刀架，所述风刀架底部的一侧安装有风刀，所述安装架顶端的两侧均安装有电动推杆，所述电动推杆的底端安装有固定块，所述固定块的底端安装有固定架，所述固定架的内部等距离安装有固定杆，所述固定杆的底端安装有连接杆，所述连接杆的底端安装有固定机构，所述固定机构的底端安装有硅片，所述安装架左侧的中部安装有进水管，所述安装架右侧的底部连通有排水阀。

优选的，所述固定机构包括安装在连接杆底端的活动架，所述活动架的内部活动安装有活动块，所述活动块两侧的中部均开设有滑槽，所述活动架内腔的两侧均安装有滑块，所述滑块活动穿插在滑槽的内部，所述活动块的底端安装有固定座，所述硅片活动穿插在固定座的内部。

优选的，所述安装架右内壁的中部安装有调节座，所述调节座的内部安装有滑杆，所述滑杆的底部套装有滑套，所述滑套的一侧安装有连动杆，所述连动杆远离滑套的一端安装有浮标。

优选的，所述导气架的两侧均安装有固定套，所述固定套的顶端与安装架的内壁相连接。

优选的，所述安装架正面的顶壁通过合页安装有挡板。

优选的，所述隔板两侧的内部均竖向安装有电磁阀。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型通过风机向导气架的内部通风，经过分流管进入到风刀架，通过风刀能够将风排出，并且能够对风施加一定的力，使排出的风具有一定的速度，增大其喷射速度，从而能够将硅片上的水分吹去，两个风刀呈一定的角度排列，能够对硅片表面的吹扫更加均匀，并且通过双风刀对硅片进行吹拂，提高了对硅片的吹扫效率。