[实用新型]一种提高钼管靶材密度机构有效
申请号: | 202021407168.1 | 申请日: | 2020-07-16 |
公开(公告)号: | CN212955318U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 张学智;温艳玲;龙训初 | 申请(专利权)人: | 河北冠靶科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C22B9/02;C22B34/34 |
代理公司: | 北京化育知识产权代理有限公司 11833 | 代理人: | 尹均利 |
地址: | 050000 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 钼管靶材 密度 机构 | ||
1.一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:包括真空气密箱(1),所述真空气密箱(1)下表面固定安装有进水孔(4),所述真空气密箱(1)位于进水孔(4)前方固定安装有废气排放口(5),所述真空气密箱(1)位于废气排放口(5)前方固定安装有出料管(2),所述真空气密箱(1)位于出料管(2)前方固定安装有出水孔(3),所述出料管(2)下端固定安装有防堵阀(18),所述真空气密箱(1)上表面固定安装有送料管(6),所述送料管(6)上端螺旋连接有密封盖(10),所述真空气密箱(1)位于送料管(6)前方固定安装有激光枪(7),所述真空气密箱(1)位于激光枪(7)前方固定安装有抽气孔(8),所述真空气密箱(1)位于送料管(6)后方固定安装有充气孔(9),所述真空气密箱(1)内部固定安装有化料台(11),所述化料台(11)上端开设有弧形化料口(12),所述化料台(11)位于弧形化料口(12)下方固定安装有小孔下放板(13),所述小孔下放板(13)下方固定安装有强电磁台(17),所述强电磁台(17)上端开设有液态金属存放皿(15),所述强电磁台(17)中部固定安装有环形定位台(16),所述强电磁台(17)外侧位于化料台(11)内部开设有输气孔(14)。
2.根据权利要求1所述的一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:所述真空气密箱(1)下表面位于边缘处固定安装有支撑腿(101),所述密封盖(10)下端固定安装有环形支撑柱(102)。
3.根据权利要求2所述的一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:所述出水孔(3)下端固定安装有一号水管(301),所述进水孔(4)下端固定安装有二号水管(401),所述激光枪(7)上端固定连接有穿线管(701)。
4.根据权利要求3所述的一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:所述强电磁台(17)位于液态金属存放皿(15)下方和出料管(2)固定连接,所述输气孔(14)下端和废气排放口(5)固定连接。
5.根据权利要求4所述的一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:所述化料台(11)下端和真空气密箱(1)固定连接,所述密封盖(10)通过环形支撑柱(102)和真空气密箱(1)固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种提高钼管靶材密度机构,其特征在于:所述出水孔(3)和进水孔(4)通过降温水管固定连接,所述支撑腿(101)数量共有三个,所述激光枪(7)和所述穿线管(701)数量均为四个。
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