[实用新型]一种提高钼管靶材密度机构

说明书

本实用新型公开了一种提高钼管靶材密度机构，包括真空气密箱，所述真空气密箱下表面固定安装有进水孔，所述真空气密箱位于进水孔前方固定安装有废气排放口，所述真空气密箱位于废气排放口前方固定安装有出料管，所述真空气密箱位于出料管前方固定安装有出水孔，所述出料管下端固定安装有防堵阀，所述真空气密箱上表面固定安装有送料管，所述送料管上端螺旋连接有密封盖，所述真空气密箱位于送料管前方固定安装有激光枪。本实用新型所述的一种提高钼管靶材密度机构，能够保证反应的迅速进行，且能够进一步熔化钼，双重的熔化除杂反应之后，钼金属的纯度会进一步被提升，从而达到了更高密度的钼靶材。

技术领域

本实用新型涉及钼管靶材密度机构领域，特别涉及一种提高钼管靶材密度机构。

背景技术

钼管靶材密度机构为一种能够提高钼管靶材中钼的密度的装置，由真空气密箱、激光枪和化料台等组成，放置于宽阔干燥的场地内，具备较好的提纯效果，钼靶材特性主要有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能，钼靶材中钼的纯度高达99.9％，由于其优异的机械和化学性能，让钼靶材在制造业中得到了广泛的应用，钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统，广泛应用于各个领域；然而现有的钼管靶材密度机构在使用时存在一定的弊端，由于其高纯度得不到较好的提炼，往往导致靶材质量容易出现问题，以及钼金属的熔化处理不够全面，并且熔化钼的环境不能达到在干燥的情况下进行。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种提高钼管靶材密度机构，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种提高钼管靶材密度机构，包括真空气密箱，所述真空气密箱下表面固定安装有进水孔，所述真空气密箱位于进水孔前方固定安装有废气排放口，所述真空气密箱位于废气排放口前方固定安装有出料管，所述真空气密箱位于出料管前方固定安装有出水孔，所述出料管下端固定安装有防堵阀，所述真空气密箱上表面固定安装有送料管，所述送料管上端螺旋连接有密封盖，所述真空气密箱位于送料管前方固定安装有激光枪，所述真空气密箱位于激光枪前方固定安装有抽气孔，所述真空气密箱位于送料管后方固定安装有充气孔，所述真空气密箱内部固定安装有化料台，所述化料台上端开设有弧形化料口，所述化料台位于弧形化料口下方固定安装有小孔下放板，所述小孔下放板下方固定安装有强电磁台，所述强电磁台上端开设有液态金属存放皿，所述强电磁台中部固定安装有环形定位台，所述强电磁台外侧位于化料台内部开设有输气孔。

优选的，所述真空气密箱下表面位于边缘处固定安装有支撑腿，所述密封盖下端固定安装有环形支撑柱。

优选的，所述出水孔下端固定安装有一号水管，所述进水孔下端固定安装有二号水管，所述激光枪上端固定连接有穿线管。

优选的，所述强电磁台位于液态金属存放皿下方和出料管固定连接，所述输气孔下端和废气排放口固定连接。

优选的，所述化料台下端和真空气密箱固定连接，所述密封盖通过环形支撑柱和真空气密箱固定连接。

优选的，所述出水孔和进水孔通过降温水管固定连接，所述支撑腿数量共有三个，所述激光枪和所述穿线管数量均为四个。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：