[实用新型]一种用于MPCVD系统的导流式样品托及MPCVD系统

权利要求书

1.一种用于MPCVD系统的导流式样品托，其特征在于，包括：

样品托本体(2)，用于水平放置于反应腔内，所述样品托本体(2)的上方中心处设置有用于导入气流(6)的气体导入口；所述样品托本体(2)的下部为圆柱体状，其上部包括同轴设置的挡流板(7)和导流台(3)，所述挡流板(7)位于外侧且为圆环体；

所述导流台(3)为一上小下大的圆台体；所述导流台(3)的上表面为水平状，用于放置金刚石样品(5)；所述导流台(3)的下端直径与所述挡流板(7)内环直径相同，所述导流台(3)的高度满足以下条件：所述金刚石样品(5)放置在导流台(3)上时，所述金刚石样品(5)的上表面不超过挡流板(7)的上表面；

在所述挡流板(7)底部环绕一周间隔、且均匀贯通开设有多个径向导流孔(4)；各所述导流孔(4)用于：将气流(6)流经气体导入口、金刚石样品(5)表面、导流台(3)侧壁后导出样品托本体(2)的外部。

2.根据权利要求1所述的一种用于MPCVD系统的导流式样品托，其特征在于，所述导流台(3)侧壁与水平面的夹角为α，α的取值范围为20°～80°。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于MPCVD系统的导流式样品托，其特征在于，各所述导流孔(4)的内径为1mm～10mm。

4.根据权利要求1或2所述的一种用于MPCVD系统的导流式样品托，其特征在于，所述样品托本体(2)的圆柱体下部、以及挡流板(7)和导流台(3)均为同轴设置的一体式结构。

5.根据权利要求1或2所述的一种用于MPCVD系统的导流式样品托，其特征在于，所述导流孔(4)为一排、或者从上到下均匀分布的多排。

6.一种MPCVD系统，其特征在于，包括权利要求1-5中任一项所述的一种用于MPCVD系统的导流式样品托。