[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置

权利要求书

1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仪(1)，镀膜仪(1)内设置有密封的镀膜腔(111)，其特征在于：镀膜腔(111)的腔底中心设置有凸起部(2)，凸起部(2)上设置有中心凹槽(211)，中心凹槽(211)固定有转动组件，转动组件上固定有支撑板(3)，支撑板(3)遮挡住凸起部(2)，支撑板(3)上设置有置物槽(311)，支撑板(3)和镀膜腔(111)的侧面形成有空隙，支撑板(3)上设置有多个漏液孔(5)，漏液孔(5)内设置有密封块(6)，密封块(6)上形成有漏液通道(611)；镀膜腔(111)的内壁固定有多块刮板(7)，刮板(7)延伸至镀膜腔(111)的上端；镀膜腔(111)的底部贴合有隔离膜(88)，隔离膜(88)的中心处设置有吸水块(66)。

2.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：镀膜腔(111)的腔底为圆形结构。

3.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：镀膜仪(1)的一侧安装固定有连接管(8)，连接管(8)连接有真空泵(9)，真空泵(9)的出气端安装固定有排气管(11)，连接管(8)和镀膜仪(1)的连接处固定有密封圈；镀膜仪(1)的一侧设置有观察窗口，观察窗口内密封固定有透明板(12)。

4.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：转动组件包括安装固定有在中心凹槽(211)内的电机支架(13)，电机支架(13)上安装固定有伺服电机(15)，伺服电机(15)的电机轴上固定有减速机(16)，减速机(16)上安装固定有支撑板(3)；镀膜仪(1)的底部设置有用于控制伺服电机(15)的操作面板(17)。

5.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：凸起部(2)上，设置有隔离软套(18)，隔离软套(18)围住转动组件。

6.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：漏液通道(611)的一端和置物槽(311)导通，漏液通道(611)的另一端和镀膜腔(111)导通，其另一端和镀膜腔(111)导通，漏液通道(611)的直径由靠近置物槽(311)的一端朝着其另一端不断缩小。

7.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于：吸水块(66)为耐腐蚀的胶质材料制成，吸水块(66)内设置有内腔(162)，吸水块(66)的表面设置有多个进水口(161)。