[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仪，镀膜仪内设置有密封的镀膜腔，镀膜腔的腔底中心设置有凸起部，凸起部上设置有中心凹槽，中心内固定有转动组件，转动组件上固定有支撑板，支撑板遮挡住凸起部，支撑板上设置有置物槽，支撑板和镀膜腔的侧面形成有空隙，支撑板上设置有多个漏液孔，漏液孔内设置有密封块，密封块上形成有漏液通道；镀膜腔的内壁固定有多块刮板，刮板延伸至镀膜腔的上端；镀膜腔的底部贴合有隔离膜，隔离膜的中心处设置有吸水块。

技术领域

本实用新型涉及镀膜领域领域，具体涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件金属、半导体或绝缘体表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

目前，常用的真空镀膜设备有真空镀膜仪。但是，现有的真空镀膜仪在镀膜时存在缺陷，比如：

1、易造成镀膜不均匀；2。镀膜时，不易回收镀膜液等物质，易造成浪费。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是一种能够解决上述问题的镀膜均匀的真空镀膜装置。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的：一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仪，镀膜仪内设置有密封的镀膜腔，其特征在于：镀膜腔的腔底中心设置有凸起部，凸起部上设置有中心凹槽，中心内固定有转动组件，转动组件上固定有支撑板，支撑板遮挡住凸起部，支撑板上设置有置物槽，支撑板和镀膜腔的侧面形成有空隙，支撑板上设置有多个漏液孔，漏液孔内设置有密封块，密封块上形成有漏液通道；镀膜腔的内壁固定有多块刮板，刮板延伸至镀膜腔的上端；镀膜腔的底部贴合有隔离膜，隔离膜的中心处设置有吸水块。

作为优选的技术方案，镀膜腔的腔底为圆形结构。

作为优选的技术方案，镀膜仪的一侧安装固定有连接管，连接管连接有真空泵，真空泵的出气端安装固定有排气管，连接管和镀膜仪的连接处固定有密封圈；镀膜仪的一侧设置有观察窗口，观察窗口内密封固定有透明板。

作为优选的技术方案，转动组件包括安装固定有在中心凹槽内的电机支架，电机支架上安装固定有伺服电机，伺服电机的电机轴上固定有减速机，减速机上安装固定有支撑板；镀膜仪的底部设置有用于控制电机的操作面板。

作为优选的技术方案，凸起部上，设置有隔离软套，隔离软套围住转动组件。

作为优选的技术方案，漏液通道的一端和置物槽导通，漏液通道的另一端和镀膜腔导通，其另一端和空腔导通，漏液通道的直径由靠近置物槽的一端朝着其另一端不断缩小。

作为优选的技术方案，吸水块为耐腐蚀的胶质材料制成，吸水块内设置有内腔，吸水块的表面设置有多个进水口。

本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型操作简单，镀膜均匀，提升了镀膜质量；

2、便于回收镀膜液等物质，减少了资源浪费。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的整体结构图；

图2为本实用新型的置物板的俯向结构图；

图3为本实用新型的吸水块的结构图。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。