[实用新型]一种全自动磁片覆膜装置

权利要求书

1.一种全自动磁片覆膜装置，其特征在于，包括：

放料台；

上膜辊，所述上膜辊位于所述放料台的上方且与所述放料台错位设置；

第一驱动源，所述第一驱动源驱动所述上膜辊转动；

下膜辊，所述下膜辊与所述放料台同水平面设置且设置于所述上膜辊与所述放料台的中间，所述下膜辊与所述放料台的之间的间距小于磁片的长度；

第二驱动源，所述第二驱动源驱动所述下膜辊转动；

机械手，所述机械手用以将磁片竖直放置至所述上膜辊和所述放料台上；

控制器，所述控制器电连接所述第一驱动源、第二驱动源和机械手。

2.如权利要求1所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述第一驱动源和所述第二驱动源都为伺服电机。

3.如权利要求1所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述机械手包括第一机械手臂、负压机构、吸头和吸盘，所述负压机构与所述吸头可拆卸连接，所述吸头上设有安装槽和负压通道，所述负压通道与所述负压机构贯通连接，所述吸盘可拆卸连接于所述安装槽，所述安装槽与所述吸盘形成夹层空腔，所述吸盘上设有若干吸附孔。

4.如权利要求1所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述机械手包括第二机械手臂、高压气源和一体式负压吸盘，所述一体式负压吸盘包括上壳体和吸盘体，所述上壳体内集成设置有负压吸附结构，所述负压吸附结构包括有高压气源进气管、高压侧进气口、高压射流气体通道、低压侧气口，所述高压气源进气管一端连通外部高压气源、另一端连接所述高压侧进气口，所述高压射流气体通道连通所述高压侧进气口和所述低压侧气口，所述吸盘体的一面中部为真空负压吸附面，所述吸盘体内设置有吸附真空负压导气通道，所述吸附真空负压导气通道连通所述真空负压吸附面，所述吸附真空负压导气通道通过一真空负压区连通所述高压射流气体通道及所述低压侧气口。

5.如权利要求4所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述吸盘体还设有吸附盘，所述真空负压吸附面上设有安装槽，所述吸附盘可拆卸安装与所述安装槽内，所述吸附盘上设有若干吸附孔洞，若干所述吸附孔洞与所述吸附真空负压导气通道连通。

6.如权利要求4所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述低压侧气口内设有排气口，所述吸盘体上设有贯穿所述吸盘体的吹气通孔，所述吹气通孔与所述真空负压吸附面垂直设置，所述吹气通孔包括贯通连接的滑孔和连接孔，所述滑孔内设有与所述滑孔滑动密封连接的喷头，所述连接孔内设有伸缩杆，所述伸缩杆的固定端固定连接所述吸盘体，所述伸缩杆的移动端固定连接所述喷头，所述喷头内设有喷气通道和喷口，所述喷口与所述真空负压吸附面平行设置，所述喷气通道连通所述喷口和所述连接孔；所述连接孔与所述排气口通过气管连通，所述伸缩杆电连接控制器。

7.如权利要求6所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述排气口的边缘且远离高压射流气体通道处设有挡气板。

8.如权利要求1所述的全自动磁片覆膜装置，其特征在于，所述第一驱动源和第二驱动源为牵引轮。