[实用新型]一种靶材的磁性弯管机构

说明书

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种靶材的磁性弯管机构，其包括基座、真空弯管件、电磁线圈、靶材液冷固定组件和引弧组件，基座安装于真空弯管件的一端，电磁线圈绕设于真空弯管件的外壁，靶材液冷固定组件用于安装靶材并对靶材降温，引弧组件用于驱使该靶材产生弧斑。带电的溅射原子在电磁场力的作用下其移动轨迹与真空弯管件的中心轴线重合设置或平行设置，真空弯管件的中心轴线呈弯曲弧状，使得带电的溅射原子沿特定路径溅射到预设位置的工件的表面，沉积形成镀层，对靶材液冷固定组件内部导入流动的冷却液，能够对靶材液冷固定组件实现快速降温，保护靶材液冷固定组件和靶材，延长靶材液冷固定组件的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种靶材的磁性弯管机构。

背景技术

真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基材温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点，成为镀膜工业应用领域特别是建筑镀膜玻璃、透明导电膜玻璃、柔性基材卷绕镀等对大面积的均匀性有特别苛刻要求的连续镀膜场合的首选方案。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶)，使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。

现有技术中，溅射过程中带电的溅射原子的溅射路径难以控制，通常只能实现沿直线路径溅射，溅射的精准度低，工件的镀层效果差；另外，正离子轰击靶材的过程中，与靶材接触的内部零件处于超高温状态，容易被烧损，导致整个溅射过程失败，工件的镀层失败，无法满足现代化生产的需求。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种靶材的磁性弯管机构，带电的溅射原子能够沿弯曲路径溅射到预设位置的工件的表面，沉积形成镀层，溅射的精准度高，还能够对靶材液冷固定组件实现快速降温，冷却效果好。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种靶材的磁性弯管机构，其包括基座、真空弯管件、电磁线圈以及均安装于基座的靶材液冷固定组件和引弧组件，基座安装于真空弯管件的一端，电磁线圈绕设于真空弯管件的外壁，靶材液冷固定组件用于安装靶材并对靶材降温，引弧组件用于驱使该靶材产生弧斑，带电的溅射原子的移动轨迹与真空弯管件的中心轴线重合设置或平行设置。

进一步地，所述靶材液冷固定组件包括安装于基座的液冷管件、安装于液冷管件一端的夹持件以及安装于液冷管件另一端的连接管件，液冷管件安装有夹持件的一端突伸至真空弯管件内部，液冷管件安装有连接管件的一端显露于真空弯管件外，夹持件设有夹持凹槽，靶材的一端安装于夹持凹槽内。

进一步地，所述连接管件安装有进液嘴和出液嘴，液冷管件设有进液通道、与进液通道连通的第一液冷腔、与第一液冷腔连通的第二液冷腔以及与第二液冷腔连通的出液通道，进液嘴与进液通道连通，出液嘴与出液通道连通，进液通道设置于出液通道内部，进液通道与出液通道共轴设置，冷却液依次流经进液嘴、进液通道、第一液冷腔、第二液冷腔、出液通道和出液嘴，夹持件和液冷管件之间安装有密封圈。

进一步地，所述第一液冷腔由夹持件和液冷管件围设而成，夹持凹槽位于夹持件的一侧，第一液冷腔位于夹持件的另一侧。

进一步地，所述靶材液冷固定组件还包括绝缘筒件，绝缘筒件围设于夹持件和液冷管件外侧。

进一步地，所述引弧组件包括安装于基座的驱动件、与驱动件输出端连接的杆件以及设置于杆件远离驱动件的一端的引弧部件，引弧部件包括固定于杆件的支撑端以及与支撑端一体成型的弯折端，驱动件用于驱使弯折端抵触靶材或远离靶材。