[实用新型]一种半导体制造用干泵控制系统有效
申请号: | 202021438421.X | 申请日: | 2020-07-20 |
公开(公告)号: | CN212774698U | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 夏昊 | 申请(专利权)人: | 扬州晶新微电子有限公司 |
主分类号: | F04B49/06 | 分类号: | F04B49/06;F04B51/00 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 黄启兵 |
地址: | 225000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 制造 用干泵 控制系统 | ||
本实用新型属于半导体设备控制技术领域,尤其涉及一种半导体制造用干泵控制系统。包括主回路、控制回路及与主回路连接的开关电源SMPS;主回路包括依次连接的交流接触器KZ、热继电器KZR以及并联的第一支路和第二支路,控制回路包括第一控制支路和第二控制支路,控制回路还包括与主回路连接的电源控制支路。用于解决控制模块损坏后无法得到有效补充更换的问题。利用电源控制支路控制主回路电源的通断,利用第一控制支路和第二控制支路分别控制主回路中的第一支路和第二支路的通断,实现干泵的正常控制运行,结构连接简单,整体可靠,损坏后易检修,零件易更换方便维修,避免了整体式控制模块损坏后无法及时修复和更换补充。
技术领域
本实用新型属于半导体设备控制技术领域,尤其涉及一种半导体制造用干泵控制系统。
背景技术
在半导体器件芯片的制作的设备中,干泵是一种不可缺少而用得最多、最广泛的设备。因为半导体芯片或晶圆片的干法刻蚀、注入、PVD以及CVD工艺过程中,都必须保持工艺腔或承载腔的真空度。因此,干泵中机械腔体内通过容积不断周期性地变化,利用气体通道的启闭作用实现抽气作用,从而使得工艺腔或者承载腔达到真空度。而干泵机械腔体内的周期性变化是通过三相交流电机的运行来带动机械腔体内机械的往复运转。
随着半导体器件的批量逐步提高,真空设备使用频数与工作周期的不断增加与超负荷运行,干泵零件的磨损与老化日趋增加,需要进行更新迭代。机械配件是如此,同样电子元器件也是如此。然而对于一个80年代的干泵设备,很多配件在失效后无法得到有效的补充和更换。
实用新型内容
本申请实施例要解决的技术问题在于克服现有技术的不足,提供一种半导体制造用干泵控制系统,用于解决控制模块损坏后无法得到有效补充更换的问题。
本申请实施例解决上述技术问题的技术方案如下:一种半导体制造用干泵控制系统,应用于干泵上,包括主回路、控制回路及与所述主回路连接的开关电源SMPS,所述开关电源SMPS用于给所述控制回路提供电源;
所述主回路包括依次连接的交流接触器KZ、热继电器KZR以及并联的第一支路和第二支路;
所述控制回路包括与所述第一支路连接的第一控制支路和与所述第二支路连接的第二控制支路,所述第一控制支路和所述第二控制支路用于分别控制所述第一支路和所述第二支路的通断;
所述控制回路还包括与所述主回路连接的电源控制支路,用于控制所述主回路电源的通断。
相较于现有技术,以上技术方案具有如下有益效果:
利用电源控制支路控制主回路电源的通断,利用第一控制支路和第二控制支路分别控制主回路中的第一支路和第二支路的通断,实现干泵的正常控制运行,结构连接简单,整体可靠,损坏后易检修,零件易更换方便维修,避免了整体式控制模块损坏后无法及时修复和更换补充。
进一步地,所述电源控制支路包括依次连接的常开按钮S1、常闭按钮S2和热继电器常闭触点KZR-1;
所述常开按钮S1两端并联有所述交流接触器KZ的常开触点KZ-1;
所述电源控制支路中还串联有所述交流接触器KZ的线圈。
本步有益效果为:利用常开按钮S1、常闭按钮S2与交流接触器KZ线圈及热继电器KZR常闭触点串联接在主回路中,构成简单启保停电路,控制主回路的通断,整体简单,且其中的零件均为常规器件,损坏易维修和更换。
进一步地,所述第一支路包括断路器KC、交流接触器KM、热继电器KMR和电机MP;
所述第二支路包括断路器KD、交流接触器KB、热继电器KBR和电机BP。
本步有益效果为:利用断路器和热继电器提供有效的过载、漏电、缺相等保护及电流显示。
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