[实用新型]一种合成炉测温结构

说明书

本实用新型涉及半导体材料领域，公开了一种合成炉测温结构，包括设置于堵头上的测温器，测温器位于合成炉内壁与石英管外壁之间，且测温器沿合成炉轴向延伸，测温器的探头与石英管的外壁之间具有间隙，堵头上开设有测温孔，测温器设置于测温孔内。本实用新型能够解决由于在合成炉上打孔造成热量流失，温场紊乱的问题，以提高产品制成率。

技术领域

本实用新型涉及半导体材料技术领域，尤其涉及一种合成炉测温结构。

背景技术

在使用水平定向凝固法合成砷化镓多晶时，合成炉两端(合成炉的前炉口和后炉口)需要用堵头封起来进行保温，防止热量流失。砷和镓分别装载于砷舟和镓舟内，然后密封在石英管中，石英管内达到反应点的温度才能发生反应，因此需要测量石英管的温度以保证砷化镓多晶的顺利合成。

现有的测温器插在炉体侧面，需要在合成炉侧面上打孔，打孔后，就会造成热量流失，温场紊乱，制成率低下，甚至合成失败。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种合成炉测温结构，解决由于在合成炉上打孔造成热量流失，温场紊乱的问题，以提高产品制成率。

本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：

一种合成炉测温结构，包括设置于堵头上的测温器，测温器位于合成炉内壁与石英管外壁之间，且测温器沿合成炉轴向延伸。

进一步，测温器的探头与石英管的外壁之间具有间隙。

进一步，堵头上开设有测温孔，测温器设置于测温孔内。

进一步，测温器滑动穿设在测温孔内。

进一步，测温孔的个数至少为两个。

进一步，若干个测温孔均位于堵头的上部，且各个测温孔呈弧形排列。

进一步，合成炉的前炉口和后炉口的堵头上均设置有测温器。

进一步，合成炉的前炉口的堵头上的测温孔个数为五个。

进一步，合成炉的后炉口的堵头上的测温孔个数为两个。

进一步，堵头呈锥形，其小径端位于合成炉内、大径端位于合成炉外。

相对于现有的测温器安装结构而言，本实用新型的测温器安装结构具有如下优点：

1、现有的测温器插在炉体侧面，而本实用新型将测温位置从合成炉的侧面转移至合成炉的炉口，将测温器直接安装于合成炉的堵头上，无需在合成炉上打孔，因此能够减少由于在合成炉上打孔造成的热量散失、温场紊乱的问题，从而提高了制成率。

2、当产品规格改变时，测温点的位置也需要改变，由于现有的测温器位置已经固定，无法根据产品规格调整出适合的测量点，强行生产时，做出的产品成品率大幅减降低，甚至合成失败，出现生产事故，不生产又会造成设备的闲置。而本实用新型的测温器安装在堵头上，可以在堵头上调整测温器插入合成炉内的深度，即可获取所需要的测量温度，成品率不会降低，本实用新型测温结构的设计可快速改变温场位置，提高了设备的利用率。

3、现有的测温器的探头直接与石英管外壁接触，探头容易熔断，无法测温，而本实用新型的测温器的探头不直接与石英管外壁接触，探头不容易熔断，减少测温器探头铂铑丝的损耗。

4、堵头采用一体成型的锥形结构，能与合成炉炉口形成很好的密封，且堵头使用多次后，密封性依然良好，保温效果良好。

5、堵头上预留测温孔，测温器位置精确，测温准确，产品成品率提升显著。

附图说明

图1是本实用新型一种合成炉测温结构的结构示意图；

图2是图1中后堵头的侧视图；