[实用新型]一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置

说明书

本实用新型公开了一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置，包括支撑框架下部一侧设有研磨液存储装置，另一侧设有纯净水存储桶，所述支撑框架上部一侧设有三通转换阀门，另一侧设有流量控制泵；所述研磨液存储装置通过输液管路与三通转换阀门的A口相连，所述纯净水存储桶通过输水管路与三通转换阀门的B口相连，所述三通转换阀门的C口连接输出管路，所述输出管路与流量控制泵相连；所述支撑框架的底板上还设有变频电机，该变频电机输出轴的端部伸进研磨液存储装置中，所述端部设有搅拌桨叶。本申请能实现对研磨液流速的精准控制，具有定时自动搅拌功能，无需人工手动搅拌溶液防止结晶，同时解决了管路出液口处的结晶问题。

技术领域

本实用新型涉及研磨头外环研磨设备领域，具体涉及一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置。

背景技术

目前在半导体研磨头外环研磨的工艺中，研磨液的导出和控制存在一定的不可控因素；研磨液储存在研磨机上方的存储装置内，存储装置下方接有研磨液导出管，在所述导出管上设有控制流量大小的阀门，其存在的问题，研磨液流速不能得到很稳定的控制，随着存储装置内研磨液的不断消耗，流速会变慢，如果研磨液流速不稳定则不能很好的控制研磨出产品的质量好坏。

研磨液本身的特性是易沉淀和易结晶的，经过一段时间的放置研磨液在存储装置底部就会形成沉淀物质，需要手动用棍状物去搅拌研磨液防止其沉淀，同时管路出液口的研磨液长时间与空气接触会产生结晶体，每次待机时间过长就需要清理研磨液出液口防止其在出液口处结晶，否则再次打开研磨液管路，出液口处的研磨液结晶体就会随着管路流至工作台表面对产品造成划伤和污染；同时操作人员也不能准确地监控到研磨液的剩余状况，若研磨液不足，可能导致对产品的去除率不受控制，从而导致研磨产品报废。

实用新型内容

针对现有技术存在研磨液沉淀、结晶、流量不稳定的问题，本申请提供一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置，用于代替现有的研磨液导出系统。

为实现上述目的，本申请的技术方案为：一种半导体外环研磨设备的研磨液自动供给输送装置，包括支撑框架，所述支撑框架下部一侧设有研磨液存储装置，另一侧设有纯净水存储桶，所述支撑框架上部一侧设有三通转换阀门，另一侧设有流量控制泵；所述研磨液存储装置通过输液管路与三通转换阀门的A口相连，所述纯净水存储桶通过输水管路与三通转换阀门的B口相连，所述三通转换阀门的C口连接输出管路，所述输出管路与流量控制泵相连；所述支撑框架的底板上还设有变频电机，该变频电机输出轴的端部伸进研磨液存储装置中，所述端部设有搅拌桨叶。

进一步的，所述研磨液存储装置，包括研磨液存储桶，该研磨液存储桶顶部设有进液口，所述进液口外周设有凸起，该凸起与进液口侧壁形成卡台，在卡台上设有过滤网，进液盖体盖合在凸起上。

进一步的，所述研磨液存储桶的其中一个拐角处下部设有三菱形凹槽，在所述三菱形凹槽的顶面和底面对称设有接头，两个接头之间连接有透明连接管，所述透明连接管底部设有液位传感器，所述液位传感器与电气箱相连。

进一步的，所述纯净水存储桶的其中一个拐角处下部设有三菱形凹槽，在所述三菱形凹槽的顶面和底面对称设有接头，两个接头之间连接有透明连接管。

进一步的，所述支撑框架的底板下面四周分别设有可固定滑轮。

更进一步的，在研磨液存储桶顶部还设有出液口，该出液口连接输液管路；在研磨液存储桶一侧底部设有排液口。

更进一步的，在纯净水存储桶顶部设有进液口和出液口，所述进液口与外部纯净水供水管相连接，所述出液口与输水管路相连，在纯净水存储桶一侧底部设有排液口。

更进一步的，所述变频电机与电气箱相连，该电气箱位于支撑框架一端的外壁上。

作为更进一步的，所述输出管路一端伸出支撑框架裸露在外。