[实用新型]用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备

说明书

该实用新型公开了一种用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备，用于聚焦离子束制样的样品台包括：承载支架，承载支架适于承载第一尺寸晶圆；承载台，承载台设在承载支架上且适于承载第二尺寸晶圆，其中，第一尺寸晶圆大于第二尺寸晶圆，承载台用于承载第二尺寸晶圆的承载面不超出承载支架用于承载第一尺寸晶圆的承载面，且在承载支架的厚度方向上，承载用于承载第二尺寸晶圆的承载面不低于承载支架用于承载第一尺寸晶圆的承载面。由此根据本实用新型实施例的用于聚焦离子束制样的样品台，能够适用于不同尺寸大小的半导体晶圆样品进行制样，适用范围更广，成本低且也无需做其它额外的评估。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，具体涉及一种用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的聚焦离子束制样设备。

背景技术

对于现有技术的制样机台FIB(聚焦离子束显微镜)来讲，能够用于芯片的电路修补、断面切割、透镜样品制备等，在进行制样时，一般按照样品的大小可分为大FIB和小FIB，大FIB主要适用于对大体完整的半导体晶圆进行制样，而小FIB主要针对已经破片的半导体晶圆进行制样。由于机台设计上的不一样，主要是由于大FIB在对晶圆进行传输、转移、锁定等过程中由于存在机械运动，机械臂抓取，传感器感应等原因，必须使用镂空的平台，导致二者不能通用，针对不同大小的半导体晶圆进行制样时须根据半导体晶圆的大小选择不同的机台，成本过高且适用范围小。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于聚焦离子束制样的样品台，能够适用于不同大小的半导体晶圆，适用范围广。

根据本实用新型实施例的用于聚焦离子束制样的样品台，包括：承载支架，所述承载支架适于承载第一尺寸晶圆；承载台，所述承载台设在所述承载支架上且适于承载第二尺寸晶圆，其中，所述第一尺寸晶圆大于所述第二尺寸晶圆，所述承载台用于承载所述第二尺寸晶圆的承载面不超出所述承载支架用于承载所述第一尺寸晶圆的承载面，且在所述承载支架的厚度方向上，所述承载台用于承载所述第二尺寸晶圆的承载面不低于所述承载支架用于承载所述第一尺寸晶圆的承载面。

由此根据本实用新型实施例的用于聚焦离子束制样的样品台，通过承载支架承载大尺寸的第一尺寸晶圆，通过承载台能够承载小尺寸的第二尺寸晶圆，这样在进行制样，大尺寸的第一尺寸晶圆例如完整晶圆可放置在承载支架上进行观察制样，小尺寸的第二尺寸晶圆例如晶圆碎片可放置在承载台上进行观察制样，这样，本实用新型实施例的用于聚焦离子束制样的样品台能够适用于不同尺寸大小的半导体晶圆样品进行制样，从而提高用于聚焦离子束制样的样品台的实用性，使得用于聚焦离子束制样的样品台的使用范围更广，而且不需要根据不同大小的半导体晶圆而选择采用不同的聚焦离子束制样设备，不同大小的半导体晶圆可在同一个聚焦离子束制样设备上进行制样，且可不需要设置对机台进行较大的改变，能够降低成本，也无需做其它额外的评估。

而且承载台设在承载支架上且不超出承载支架的承载面，这样，用于聚焦离子束制样的样品台置于聚焦离子束制样设备上时，用于聚焦离子束制样的样品台不影响聚焦离子束制样设备的机械手臂和托盘的移动以及用于聚焦离子束制样的样品台感应。

根据本实用新型的一些实施例，所述承载台用于承载所述第二尺寸晶圆的承载面与所述承载支架用于承载所述第一尺寸晶圆的承载面平齐。

根据本实用新型的一些实施例，所述承载台由导电材料制成。

可选地，所述承载台为铝板。

根据本实用新型的一些实施例，所述用于聚焦离子束制样的样品台还包括导电固定件，所述承载台通过所述导电固定件与所述承载支架连接。

可选地，所述导电固定件为金属卡扣和/或金属螺钉。

根据本实用新型的一些实施例，所述承载台适于与所述第二尺寸晶圆通过导电胶带连接。

根据本实用新型的一些实施例，所述承载台设在所述承载支架的中心位置处。