[实用新型]一种太阳能电池PECVD镀膜装置有效

专利信息
申请号: 202021524052.6 申请日: 2020-07-29
公开(公告)号: CN212894965U 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 黄镇 申请(专利权)人: 中建材浚鑫科技有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;H01L31/18
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 范登峰
地址: 214443 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能电池 pecvd 镀膜 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种太阳能电池PECVD镀膜装置,包括硅片台,所述硅片台包括放置台,所述放置台包括放置台体,所述放置台体上设置有多个硅片槽,所述硅片槽中间连接有多个放置台卡块,所述放置台卡块中间设置有圆孔,所述硅片槽一侧设置有硅片置入口,所述硅片台还包括镀膜台,所述放置台贴合镀膜台,所述镀膜台包括镀膜台体,所述镀膜台体侧面设置有挡板,所述镀膜台体内侧设置有镀膜台卡块,所述镀膜台卡块上连接有支撑钉,所述支撑钉顶部安装有滚子,所述放置台和放置台一侧连接有固定块,所述固定块通过固定柱和固定螺母将硅片台固定于支撑柱上,所述支撑柱一侧安装有双向电机,本实用新型,具有采用水平置入硅片的方式,可以同时镀膜两面和减小卡点印的特点。

技术领域

本实用新型涉及镀膜器械技术领域,具体为一种太阳能电池PECVD镀膜装置。

背景技术

PECVD镀膜是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积

而现有的PECVD镀膜装置在使用时采用垂直置入硅片的方式,很容易损坏硅片;固定硅片的卡点块会阻碍镀膜,使卡点位置形成卡点印;一次只能镀膜一个面,对于需要镀膜两面的硅片很不方便。因此,设计采用水平置入硅片的方式,可以同时镀膜两面和减小卡点印的一种太阳能电池PECVD镀膜装置是很有必要的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种太阳能电池PECVD镀膜装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种太阳能电池 PECVD镀膜装置,包括硅片台,所述硅片台包括放置台,所述放置台包括放置台体,所述放置台体上设置有多个硅片槽,所述硅片槽为镂空结构,所述硅片槽中间连接有多个放置台卡块,所述放置台卡块中间设置有圆孔,所述硅片槽一侧设置有硅片置入口,所述放置台体一侧连接有放置台卡孔,硅片置入口使硅片可以水平滑入硅片槽,避免了垂直放入时硅片可能会因碰撞而损坏的问题。

根据上述技术方案,所述硅片台还包括镀膜台,所述放置台贴合镀膜台,所述镀膜台包括镀膜台体,所述镀膜台体也有多处镂空,当放置台和镀膜台贴合时,所述镀膜台体和硅片槽镂空处相通,当硅片镀膜时,放置台会自动与镀膜台贴合,镀膜台体和硅片槽镂空处相通使该装置可以同时镀膜硅片两面,增加了镀膜效率。

根据上述技术方案,所述镀膜台体侧面设置有挡板,当放置台和镀膜台贴合时,所述挡板将硅片置入口挡住,镀膜时挡板将硅片置入口挡住,防止硅片在镀膜时意外滑出而损坏。

根据上述技术方案,所述镀膜台体内侧设置有镀膜台卡块,所述镀膜台卡块上连接有支撑钉,所述支撑钉顶部安装有滚子,当放置台和镀膜台贴合时,所述放置台卡块和镀膜台卡块相连,所述支撑钉位于圆孔内,所述镀膜台一侧设置有镀膜台卡孔,镀膜时,支撑钉将硅片托起,由于支撑钉与硅片的接触面十分小,大大减少了镀膜的卡点印,增加了镀膜的质量,滚子使硅片镀膜时不会因为移动而被支撑钉刮伤,放置台和镀膜台在放入和取出硅片时分离是为了防止使用者用力过度,而使支撑钉刮伤硅片。

根据上述技术方案,所述放置台卡孔和镀膜台卡孔连接有固定块,所述固定块包括固定块体,所述固定块体一侧连接有固定柱,所述固定柱上安装有固定螺母,所述固定柱和固定螺母通过螺纹连接,所述固定块通过固定柱和固定螺母将硅片台固定住,硅片台通过固定块固定于支撑柱上,使支撑柱上可以放置多个硅片台,同时镀膜多个硅片,增加镀膜效率。

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