[实用新型]涂胶显影设备

权利要求书

1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括：

载体块；

接口块；

第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；

其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一热处理单元包括层叠设置的第一低温加热单元组和第一增粘单元组，所述第一低温加热单元组包括并列设置的第一列低温加热单元和第二列低温加热单元，且所述第一列低温加热单元和所述第二列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置，所述第一增粘单元组包括并列设置的第一列增粘单元和第二列增粘单元，且所述第一列增粘单元和所述第二列增粘单元中增粘单元均层叠设置。

3.根据权利要求2所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一热处理单元包括第二低温加热单元组，所述第二低温加热单元组包括并列设置的第三列低温加热单元和第四列低温加热单元，且所述第三列低温加热单元和所述第四列低温加热单元中低温加热单元均层叠设置。

4.根据权利要求3所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层第一热处理单元包括第三低温加热单元组、晶圆缺陷检测单元组和第二增粘单元组，所述第二增粘单元组与所述第二低温加热单元组层叠设置，所述第三低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述晶圆缺陷检测单元组包括一列层叠设置的晶圆缺陷检测单元，所述第二增粘单元组包括并列设置的第三列增粘单元和第四列增粘单元，且所述第三列增粘单元与所述晶圆缺陷检测单元组层叠设置，所述第四列增粘单元与所述第三低温加热单元组层叠设置，所述晶圆缺陷检测单元组与所述第三低温加热单元组并列设置。

5.根据权利要求4所述的涂胶显影设备，其特征在于，第四层第一热处理单元包括并列设置的第四低温加热单元组和第一冷却单元组，所述第四低温加热单元组包括一列层叠设置的低温加热单元，所述第一冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元。

6.根据权利要求1所述的涂胶显影设备，其特征在于，第一层第一液体处理单元包括层叠设置的第一保护膜涂布单元组、第二冷却单元组和第二保护膜涂布单元组，所述第一保护膜涂布单元组包括并列设置的第一保护膜涂布单元和第二保护膜涂布单元，第二保护膜涂布单元组包括并列设置的第三保护膜涂布单元和第四保护膜涂布单元，所述第二冷却单元组包括一些层叠设置的第二冷却单元，且所述第二冷却单元组设置于所述第一保护膜涂布单元和所述第三保护膜涂布单元之间。

7.根据权利要求6所述的涂胶显影设备，其特征在于，第二层第一液体处理单元包括层叠设置的第一涂胶单元组、第三冷却单元组和第二涂胶单元组，所述第一涂胶单元组包括并列设置的第一涂胶单元和第二涂胶单元，所述第二涂胶单元组包括并列设置的第三涂胶单元和第四涂胶单元，所述第三冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第三冷却单元组设置于所述第二涂胶单元和所述第四涂胶单元之间，所述第一涂胶单元与所述第三保护膜涂布单元层叠设置，所述第二涂胶单元与所述第四保护膜涂布单元层叠设置。

8.根据权利要求7所述的涂胶显影设备，其特征在于，第三层第一液体处理单元包括层叠设置的第一底层胶单元组、第四冷却单元组和第二底层胶单元组，所述第一底层胶单元组包括并列设置的第一底层胶单元和第二底层胶单元，第二底层胶单元组包括并列设置的第三底层胶单元和第四底层胶单元，所述第四冷却单元组包括一列层叠设置的冷却单元，且所述第四冷却单元组设置于所述第一底层胶单元和所述第三底层胶单元之间，所述第一底层胶单元与所述第三涂胶单元层叠设置，所述第二底层胶单元与所述第四涂胶单元层叠设置。