[实用新型]清洗及除静电装置有效
申请号: | 202021603140.5 | 申请日: | 2020-08-05 |
公开(公告)号: | CN212542367U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 兰升友;张涛;张彬彬;杨富可 | 申请(专利权)人: | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H05F3/04 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 402760 重庆市璧*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 静电 装置 | ||
1.一种清洗及除静电装置,其特征在于,包括:
第一壳体,包括第一容置空间;
传送组件,容置于所述第一容置空间,且所述传送组件具有倾斜于水平面的传送面,所述传送面用于承载基板;以及
喷淋组件,容置于所述第一容置空间,且位于所述传送组件上方,所述喷淋组件用于朝向所述传送面喷射清洗液。
2.如权利要求1所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述传送组件包括支架、转轴和多个滚轮,所述转轴与所述支架转动连接,多个所述滚轮等间距间隔地设于所述转轴上,所述转轴的延伸方向与水平面呈第一夹角。
3.如权利要求2所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述传送组件还包括轴承,所述轴承与所述支架连接,所述转轴与所述轴承连接。
4.如权利要求2所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述传送组件还包括高度调节件,所述支架的底部的一端与所述第一壳体转动连接,所述高度调节件支撑在所述支架的底部的相对的另一端,所述高度调节件用于调节得到支架的一端的高度,以调节所述第一夹角的大小。
5.如权利要求4所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述第一夹角为0-45°。
6.如权利要求2所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述喷淋组件包括喷淋管和多个喷嘴,所述喷淋管相对于水平面倾斜,多个所述喷嘴设置于所述喷淋管上,多个所述喷嘴用于朝向所述传送面喷射清洗液。
7.如权利要求6所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述喷淋管与水平面的夹角为所述第一夹角。
8.如权利要求1所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述第一壳体包括顶盖,所述顶盖呈中间高四周低的结构。
9.如权利要求1至8任一项所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述清洗及除静电装置还包括第二壳体和除静电组件,所述第二壳体包括第二容置空间,所述除静电组件容置于所述第二容置空间,所述传送组件将所述基板输送至所述第二容置空间进行干燥时,所述除静电组件用于除去所述基板的静电。
10.如权利要求9所述的清洗及除静电装置,其特征在于,所述除静电组件包括等离子除静电器和气嘴,所述等离子除静电器用于去除所述基板的静电,所述气嘴用于向所述传送面吹气。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造