[实用新型]一种新型的晶圆转速测量装置有效
申请号: | 202021621203.X | 申请日: | 2020-08-06 |
公开(公告)号: | CN213517184U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 陈雪琪;黄嘉劲 | 申请(专利权)人: | 黄嘉劲 |
主分类号: | G01P3/00 | 分类号: | G01P3/00;G01P3/36 |
代理公司: | 广州中粤知识产权代理事务所(普通合伙) 44752 | 代理人: | 杨毅宇 |
地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 转速 测量 装置 | ||
本实用新型涉及一种新型的晶圆转速测量装置,包括支撑座和从动轮,所述支撑座下端安装有电机,电机的活动端安装有主动轮,主动轮驱动晶圆旋转,所述主动轮上方设置有连杆,所述连杆一端安装有非接触式转速仪,连杆另一端通过阻尼转轴与支撑座转动连接,所述从动轮与一侧的晶圆接触配合,从动轮安装有与非接触式转速仪配合的反光片,所述支撑座安装有环绕晶圆分布的多个测速组件,本实用新型设计合理,利用多个测速组件和从动轮进行晶圆测速,对测量到的不同数值进行对比,并求平均值,来完成测速工作。
技术领域
本实用新型涉及一种新型的晶圆转速测量装置,属于晶圆转速侦测设备技术领域。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅。
晶圆在加工进行包装前,需要进行清洗处理,保证晶圆的清洁及正常使用,晶圆在清洗时进行旋转运动,同时,需要测量晶圆的转速,来判断是否需要调整晶圆转速以及其他操作,目前的晶圆转速测量装置还存在不足,测量晶圆转速的从动轮容易打滑,降低晶圆转速测量的准确度,影响人们对晶圆操作的判断,因此需要进一步改进。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题克服现有的缺陷,提供一种新型的晶圆转速测量装置,可以有效解决背景技术中的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:
一种新型的晶圆转速测量装置,包括支撑座和从动轮,所述支撑座下端安装有电机,电机的活动端安装有主动轮,主动轮驱动晶圆旋转,所述主动轮上方设置有连杆,所述连杆一端安装有非接触式转速仪,连杆另一端通过阻尼转轴与支撑座转动连接,所述从动轮与一侧的晶圆接触配合,从动轮安装有与非接触式转速仪配合的反光片,所述支撑座安装有环绕晶圆分布的多个测速组件。
进一步而言,所述测速组件包括支架、接触式转速仪、联轴器、测速辊,支架固定在支撑座上,支架上方安装有接触式转速仪,接触式转速仪的活动端与右侧测速辊通过联轴器连接,测速辊与晶圆接触配合。
进一步而言,所述测速组件还包括第一限位板和第二限位板,测速辊穿过第一限位板和第二限位板,第一限位板下端以及第二限位板下端固定在支架上,第二限位板与测速辊通过球轴承连接。
进一步而言,所述从动轮的圆周面加工有磨砂层。
进一步而言,所述主动轮的圆周面经过磨砂工艺处理。
进一步而言,所述从动轮、阻尼转轴、非接触式转速仪、反光片至少设置有两组。
本实用新型有益效果:本实用新型所涉及的一种新型的晶圆转速测量装置,通过设置有支撑座、晶圆、电机、主动轮、阻尼转轴、连杆、非接触式转速仪、从动轮、反光片,将支撑座安装到晶圆清洗设备中,电机接电运转,给非接触式转速仪接电,旋转连杆180度,使非接触式转速仪发射红外线对准反光片,电机带动主动轮旋转,主动轮带动晶圆动作,晶圆在清洗设备中得到清洗,晶圆带动从动轮旋转,从动轮带动反光片旋转,反光片每转一圈将给非接触式转速仪发送一个信号,非接触式转速仪通过测量反光片的转速来测量从动轮的转速,来作为晶圆的转速,通过设置有支架、接触式转速仪、联轴器、测速辊、第一限位板、第二限位板,第一限位板和第二限位板位于晶圆的两侧,晶圆带动测速辊旋转,测速辊带动联轴器以及接触式转速仪的活动端旋,接触式转速仪来测量转速,并作为晶圆的转速,工作人员可对多个测量值求均值,提高测量值的准确度。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。
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