[实用新型]一种晶界扩散工艺用真空反应系统

权利要求书

1.一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：包括能够对工件进行加热的真空炉(10)，真空炉(10)的炉体(1)包括内部中空的炉壳(11)，真空炉(10)的外侧设置有快冷装置(9)，快冷装置(9)包括一端密封的供水管(91)和回水管(92)，供水管(91)与炉壳(11)内部的空腔、回水管(92)与炉壳(11)内部的空腔均连通有联通管(93)。

2.根据权利要求1所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：供水管(91)以及回水管(92)上均连通有多个辅助管(98)，辅助管(98)上设置有控制阀(99)，联通管(93)通过所述辅助管(98)与供水管(91)或者回水管(92)内部连通。

3.根据权利要求1所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：快冷装置(9)还包括进气管(94)和出气管(96)，进气管(94)以及出气管(96)靠近炉体(1)的一端贯穿炉体(1)与炉体(1)内部连通，进气管(94)与出气管(96)远离炉体(1)的一端连接到同一个离心风机(95)上，出气管(96)上设置有能够为出气管(96)内部的气体进行降温的换热器。

4.根据权利要求3所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：换热器为气液换热器(97)，气液换热器(97)中冷媒的入口连通到供水管(91)内部，冷媒的出口连通到回水管(92)内部。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：炉体(1)内部设置有带状电阻加热器(2)以及位于炉体(1)与带状电阻加热器(2)之间的反射屏(3)；炉壳(11)的一端铰接有前炉门(13)，另一端固定有后炉门(14)；带状电阻加热器(2)包括前加热器(21)、炉壳加热器(22)和后加热器(23)；反射屏(3)包括固定在前炉门(13)上的前反射屏(31)、分体设置在炉壳(11)内且呈圆柱筒状的炉壳反射屏(32)以及固定在后炉门(14)上的后反射屏(33)；炉壳反射屏(32)上设有将炉壳加热器(22)以柔性连接的方式固定在炉壳反射屏(32)内的第一柔性固定组件(5)，前反射屏(31)和后反射屏(33)朝向炉壳(11)的一侧均设有第二柔性固定组件(6)，第二柔性固定组件(6)分别将前加热器(21)以柔性连接的方式固定在前反射屏(31)上、将后加热器(23)以柔性连接的方式固定在后反射屏(33)上。

6.根据权利要求5所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：第一柔性固定组件(5)包括位于炉壳反射屏(32)内部的柱体(51)、固接在柱体(51)一端且沿炉壳反射屏(32)径向穿出的第一穿杆(52)、固接在柱体(51)另一端且穿过炉壳加热器(22)的第二穿杆(53)、分别插接至第一穿杆(52)伸出炉壳反射屏(32)一端和第二穿杆(53)穿出炉壳加热器(22)一端的B型开口销(54)，柱体(51)靠近炉壳加热器(22)的一端与插接在第二穿杆(53)上的B型开口销(54)之间存在供炉壳加热器(22)膨胀的间距。

7.根据权利要求6所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：第二穿杆(53)位于炉壳加热器(22)两侧的杆体上分别穿设有弹性垫片(7)，两弹性垫片(7)之间预留伸缩间隙。

8.根据权利要求5所述的一种晶界扩散工艺用真空反应系统，其特征在于：第二柔性固定组件(6)包括垂直固接在前反射屏(31)或后反射屏(33)朝向炉壳(11)一侧的立板(61)、设置在立板(61)两侧且可相对或相向移动的托料件(62)、将托料件(62)连接在立板(61)上的固定螺栓(63)以及设置在两托料件(62)之间以限制前加热器(21)或后加热器(23)掉落的限位螺栓(64)。