[实用新型]一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构

权利要求书

1.一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：包括垂直移动支架，水平横向移动支架和水平纵向移动支架；所述的垂直移动支架由四根圆柱体立柱组成，圆柱体立柱垂直于水平面且相互平行，四根圆柱体立柱分别位于长方形的四个角；所述的水平横向移动支架由两根长方体立柱组成，长方体立柱安装于垂直移动支架的圆柱体立柱上，长方体立柱与圆柱体立柱相互垂直，两根长方体立柱位于同一水平面且相互平行，所述的水平纵向移动支架为正方体立柱，正方体立柱安装于水平横向移动支架的长方体立柱上，长方体立柱与水平横向移动支架的长方体立柱相互垂直，长方体立柱设置有燕尾槽。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平横向移动支架与垂直移动支架之间只有一个自由度，垂直移动支架与水平面相互垂直，且垂直移动支架与水平面为固定连接，水平横向移动支架通过环套结构安装于垂直移动支架上，水平横向移动支架在垂直方向移动。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平纵向移动支架与水平横向移动支架之间只有一个自由度，水平纵向移动支架与两根水平横向移动支架相互垂直，水平纵向移动支架在水平面做横向左右移动。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平横向移动支架和水平纵向移动支架安装有电机，电机位于水平横向移动支架和水平纵向移动支架的两端，电机与水平横向移动支架和水平纵向移动支架固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的移动机构固定安装于操作平台的机架上，移动机构的垂直移动支架与操作平台相互垂直，垂直移动支架通过螺栓固定于操作平台的四个角。

6.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平纵向移动支架为正方体立柱，水平纵向移动支架设置有导轨，导轨采用燕尾槽结构，燕尾槽设置于正方体立柱的下表面。

7.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平纵向移动支架与电镀刷的燕尾连接件为可拆卸式连接，水平纵向移动支架与燕尾连接件有一个自由度，水平纵向移动支架与燕尾连接件通过燕尾槽导轨水平移动。

8.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻反应腔室的全自动刷镀镍的移动机构，其特征在于：所述的水平横向移动支架与垂直移动支架通过环套结构连接，环套结构采用法兰直线轴承，水平纵向移动支架与水平横向移动支架通过滑轨结构连接，滑轨结构采用线性滑轨平台。