[实用新型]一种半导体芯片生产用浸没式光刻机

说明书

本实用新型属于光刻机技术领域，具体为一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括有操作台，所述操作台的两侧分别安装有升降机，所述升降机的顶端连接有轨架，所述轨架上安装有移动机，所述移动机的底部设有动力泵，所述动力泵的两端分别连接有连接块，所述连接块的内部设有缓冲弹簧。本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果：通过动力泵、缓冲弹簧和压力感应器，使动力泵可以对硅片进行夹持，而缓冲弹簧防止用力过度对硅片造成损伤，同时压力感应器检测固定力度，避免过度施力，从而提高了装置的安全性，另外移动机可以带动硅片运动到清洗箱的上方，升降机带动移动机上下运动，实现自动化调整。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，具体为一种半导体芯片生产用浸没式光刻机。

背景技术

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

现有浸没式光刻机在实际使用过程中或多或少都存在有一定的缺点，比如制作硅片前需要先进行清洗，而现有清洗方式通过人工手动操作，并且需要取出进行烘干，操作较为繁琐，另外在对硅片进行夹持固定时容易用力过度对硅片造成损伤，影响后续生产质量，不便于推广使用，因此我们提出了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机。

实用新型内容

(一)实用新型目的

为解决背景技术中存在的技术问题，本实用新型提出一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，具有自动清洗烘干和固定效果好的特点。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括有操作台，所述操作台的两侧分别安装有升降机，所述升降机的顶端连接有轨架，所述轨架上安装有移动机，所述移动机的底部设有动力泵，所述动力泵的两端分别连接有连接块，所述连接块的内部设有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧的一侧安装有压力感应器，所述缓冲弹簧的另一侧设有限位杆，所述限位杆的另一侧连接有夹持板，所述夹持板之间夹持有硅片，所述动力泵的正面安装有警报器，所述操作台上安装有位于轨架下方的底座，所述底座上安装有检测头，所述操作台的侧面安装有控制面板。

所述操作台的右侧安装有清洗箱，所述清洗箱的下方设有电机，所述电机的顶部连接有转轴，所述转轴上和清洗箱和内壁上均设有毛刷，所述清洗箱的一侧设有排水口，所述排水口上插装有挡板，所述挡板的外侧设有烘干箱，所述烘干箱的下部安装有滤板，所述烘干箱的侧面安装有位于滤板上方的热风机。

优选的，所述操作台的内部放有位于烘干箱下方的污水箱，所述污水箱上连接有排水管。

优选的，所述动力泵的两端设有伸缩杆，且伸缩杆的底部位于同一水平线上。

优选的，所述限位杆为T形结构，且限位杆与连接块相卡接。

优选的，所述控制面板分别电性连接移动机、动力泵、电机和热风机。

优选的，所述清洗箱上开设有进水口，且清洗箱的底部半嵌入操作台的内部。

优选的，所述排水口的侧边设有密封圈，且密封圈设于清洗箱的内外两侧上。

本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果：通过动力泵、缓冲弹簧和压力感应器，使动力泵可以对硅片进行夹持，而缓冲弹簧防止用力过度对硅片造成损伤，同时压力感应器检测固定力度，避免过度施力，从而提高了装置的安全性，另外移动机可以带动硅片运动到清洗箱的上方，升降机带动移动机上下运动，实现自动化调整，而后动力泵松开硅片使其落入清洗箱内，电机配合毛刷对硅片进行清洗，清洗完成后打开排水口流入烘干箱，而硅片被滤板滤下，再通过热风机对硅片进行烘干，实现自动化清洗烘干，效率较高，操作简便，便于推广使用。

附图说明

图1为本实用新型结构剖视示意图；