[实用新型]具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片有效
申请号: | 202021688890.7 | 申请日: | 2020-08-13 |
公开(公告)号: | CN212783461U | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 张稚菱 | 申请(专利权)人: | 奈沛米(上海)半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/08;H01L29/10 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 | 代理人: | 何佳 |
地址: | 200120 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电流 双闸极 碳化硅 型金氧 半导体 晶体 晶片 | ||
1.一种具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,包括:
一晶片本体为一碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其包括源极、闸极及汲极;该源极及闸极设置在该晶片本体的上方,而该碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片的汲极设置在下方;以及其中该闸极的面积大于3mm×3mm。
2.如权利要求1所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片配置两源极,分别位于该闸极的两侧。
3.如权利要求1所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该闸极配置在该晶片本体上表面的一侧边的中央部位,该源极填满该上表面,位于该闸极以外的其余区域,该汲极填满该晶片本体的下表面;该源极分成两不同的区域。
4.如权利要求1所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该闸极设置在该晶片本体上表面的一角落,该源极填满该上表面,位于该闸极以外的其余区域,该汲极填满该晶片本体的下表面;该源极分成两不同的区域。
5.如权利要求1所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该闸极配置在该晶片本体上表面的中央部位,该源极填满该上表面,位于该闸极以外的其余区域,该汲极满该晶片本体的下表面;该源极分成两不同的区域。
6.如权利要求1至5任一项所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该闸极分为两部分,该两闸极分别拉出两闸极接点;使用时,该两闸极接点分别连接不同的驱动源;该驱动源具有不同的驱动电压及频率。
7.如权利要求1至5任一项所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该源极及该汲极为高掺杂的N+型半导体区,其间用P型半导体及低掺杂的N-型半导体予以隔开;当导通时,该源极及该汲极之间形成电流通道。
8.如权利要求1至5任一项所述的具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,其特征在于,该源极及该汲极为高掺杂的P+型半导体区,其间用N型半导体及低掺杂的P-型半导体予以隔开;当导通时,该源极及该汲极之间形成电流通道。
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