[实用新型]一种整流二极管芯片酸洗设备

权利要求书

1.一种整流二极管芯片酸洗设备，包括底座(2)，其特征在于：所述底座(2)底部的左右两侧均固定安装有平衡支脚(1)，所述底座(2)的底部且位于两个平衡支脚(1)之间固定安装有集液管(14)，所述底座(2)顶部的左右两侧均固定安装有侧板(4)，两个所述侧板(4)之间的底部固定安装有废液收集箱(13)，所述废液收集箱(13)内腔的顶部固定安装有过滤板(12)，所述底座(2)顶部的左侧固定安装有驱动电机(15)，所述驱动电机(15)的输出轴固定安装有转动轮(18)，两个所述侧板(4)之间且位于废液收集箱(13)的顶部活动安装有螺纹杆(11)，两个所述侧板(4)之间且位于螺纹杆(11)的前后两侧均固定安装有限位杆(19)，所述螺纹杆(11)的左侧固定安装有从动轮(17)，所述从动轮(17)与转动轮(18)的外侧传动连接有传动皮带(16)，所述螺纹杆(11)的外侧活动安装有移动块(20)，所述移动块(20)的顶部固定安装有酸洗盘(3)，所述酸洗盘(3)底部的前后两侧均固定安装有一端与限位杆(19)活动连接的滑动块(21)，两个所述侧板(4)之间的顶部固定安装有顶板(22)，所述顶板(22)顶部的左侧固定安装有酸液箱(6)，所述酸液箱(6)内腔的底部固定安装有加热丝(5)，所述酸液箱(6)的右侧固定安装有输液管(8)，所述输液管(8)的底部固定安装有一端与顶板(22)固定连接的酸洗管(7)，所述顶板(22)顶部的右侧固定安装有清水箱(9)，所述清水箱(9)的底部固定安装有接水管(10)。

2.根据权利要求1所述的一种整流二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述酸洗管(7)的底部固定安装有数量为多个的酸洗喷头，所述酸洗盘(3)的底部开设有漏水孔。

3.根据权利要求1所述的一种整流二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述底座(2)正面的左侧固定安装有控制面板，所述移动块(20)的右侧开设有螺纹孔，且螺纹孔与转动轮(18)相适配。

4.根据权利要求1所述的一种整流二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述集液管(14)、接水管(10)和输液管(8)的外侧均固定安装有控制阀，所述平衡支脚(1)呈T型。

5.根据权利要求1所述的一种整流二极管芯片酸洗设备，其特征在于：所述限位杆(19)与侧板(4)呈九十度垂直安装，所述螺纹杆(11)的左侧贯穿并延伸至侧板(4)的外侧且与侧板(4)活动连接。

6.根据权利要求1所述的一种整流二极管芯片酸洗设备，其特征在于：两个所述侧板(4)以底座(2)的中垂线呈对称分布，所述螺纹杆(11)的左侧固定安装有连接轴承。