[实用新型]一种真空蒸发镀膜设备

权利要求书

1.一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室(1)、工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源(2)、加热源和膜料供给机构设置在所述真空镀膜室(1)内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源(2)用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源(2)加热从而使所述蒸发源(2)内的所述膜料蒸发，其特征在于：所述膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。

2.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料器(41)和/或所述供料座(31)上设置有第一密封结构，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器(41)和供料座(31)之间形成第一密封。

3.如权利要求1所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)与所述壁部之间设置有第二密封结构，以适于在所述供料座(31)与所述壁部之间形成第二密封。

4.如权利要求1-3中任一项所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料座(31)呈套筒状，所述供料器(41)呈杆状并穿设于所述套筒状的供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)线性移动，以使在所述供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)伸出所述供料座(31)外，在所述镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)缩回所述供料座(31)内。

5.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述杆状的供料器(41)前端具有端帽(45)，所述端帽(45)后侧与所述供料座(31)的套筒前端相对，所述端帽(45)后侧和/或所述套筒前端设置有第一密封圈，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器(41)和供料座(31)之间形成第一密封。

6.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述套筒状的供料座(31)后部具有法兰盘(33)，所述法兰盘(33)前侧与所述真空镀膜室(1)的壁部相对，所述法兰盘(33)前侧和/或所述真空镀膜室(1)的壁部设置有第二密封圈，以适于在所述供料座(31)与所述壁部之间形成第二密封。

7.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述供料器(41)还包括进料口(43)和连通所述进料口(43)与所述出料口(44)的通道(46)，以适于通过所述进料口(43)为所述出料口(44)供给膜料。

8.如权利要求4所述的真空蒸发镀膜设备，其特征在于：所述膜料供给机构还包括线性致动器(42)，所述线性致动器(42)通过支架(32)固定于所述真空镀膜室(1)外侧，通过所述线性致动器(42)的动力杆推动所述供料器(41)在所述供料座(31)内线性移动。