[实用新型]一种真空蒸发镀膜设备

说明书

本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

技术领域

本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种真空蒸发镀膜设备。

背景技术

真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中开发时间最早，应用领域最广的一种薄膜沉积方法，近年来随着长寿命电阻蒸发源、电子束蒸发源、激光束蒸发源等在真空蒸发镀膜技术中的应用，使这一技术的发展更趋完善，目前仍然在真空镀膜技术中占有相当重要的地位。

真空蒸发镀膜设备主要包括真空镀膜室内的工件架、蒸发源和加热源，工件架用于安装待镀膜工件，蒸发源用于盛放膜料，加热源对蒸发源加热，促使蒸发源内的膜料粒子逸出，并在气相中迁移，最终到达工件表面上凝结而生成薄膜。在镀膜工艺中，当蒸发源中的膜料消耗殆尽时，或当需要在同一工件表面蒸镀不同材料薄膜时，都会面临为蒸发源供给膜料，现有真空蒸发镀膜设备中，供给膜料需打开真空镀膜室的舱门进行，待供给膜料完毕关闭舱门后，对真空镀膜室重新抽真空，供给膜料的整套步骤繁琐，耗费工时，降低了整个镀膜工艺效率。

实用新型内容

因此，本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种能够提高膜料供给效率的真空蒸发镀膜设备。

本实用新型的目的是通过如下技术方案来完成的，一种真空蒸发镀膜设备，包括真空镀膜室、工件架、蒸发源、加热源和膜料供给机构，所述工件架、蒸发源、加热源和加料机构设置在所述真空镀膜室内，所述工件架用于安装待镀膜工件，所述蒸发源用于盛放膜料，所述加热源用于对所述蒸发源加热从而使所述蒸发源内的所述膜料蒸发，所述膜料供给机构包括供料器和供料座，所述供料座固定于所述真空镀膜室的壁部，所述供料器设置于所述供料座内并适于相对于所述供料座移动，以使在供料状态时所述供料器的出料口露出所述供料座，在镀膜工作状态时所述供料器的出料口被所述供料座挡闭。

本实用新型在真空镀膜室的壁部固定供料座，在供料座内可相对移动地设置供料器，当需要供料时，驱动供料器相对于供料座移动使供料器的出料口露出，从而实现向蒸发源供给膜料；供料结束后，驱动供料器移动使供料器的出料口重新被供料座挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料器和/或所述供料座上设置有第一密封结构，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器和供料座之间形成第一密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料座与所述壁部之间设置有第二密封结构，以适于在所述供料座与所述壁部之间形成第二密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述供料座呈套筒状，所述供料器呈杆状并穿设于所述套筒状的供料座内并适于相对于所述供料座线性移动，以使在所述供料状态时所述供料器的出料口伸出所述供料座外，在所述镀膜工作状态时所述供料器的出料口缩回所述供料座内。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述杆状的供料器前端具有端帽，所述端帽后侧与所述供料座的套筒前端相对，所述端帽后侧和/或所述套筒前端设置有第一密封圈，以适于在所述镀膜工作状态时在所述供料器和供料座之间形成第一密封。

进一步地，本实用新型的真空蒸发镀膜设备，所述套筒状的供料座后部具有法兰盘，所述法兰盘前侧与所述真空镀膜室的壁部相对，所述法兰盘前侧和/或所述真空镀膜室的壁部设置有第二密封圈，以适于在所述供料座与所述壁部之间形成第二密封。