[实用新型]一种晶圆片全自动清洗设备

权利要求书

1.一种晶圆片全自动清洗设备，包括壳体（1），其特征在于，所述壳体（1）左侧中部位置设有用于控制设备运作的控制仓（2），所述壳体（1）为瓷白PP板材材质，所述控制仓（2）上设有用于设定设备运行参数的触摸屏（4），所述触摸屏（4）下方设有用于显示设备出现故障的信号指示灯（3），所述壳体（1）顶部设有电控区（6），所述电控区（6）左侧设有用于设备异常时可停机的急停按钮（5），所述控制仓（2）右侧设有用于方便维修安装的推拉门（7），所述推拉门（7）下方设有盖板（9），所述盖板（9）通过螺母（8）与壳体（1）固定连接，所述壳体（1）底部固定安装有用于调节平横的支撑柱（10），所述支撑柱（10）下方设有用于方便移动的行走轮（11），所述行走轮（11）为带锁脚轮。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述壳体（1）内部7个工艺槽从左至右依次为显影槽（34）、晶圆片腐蚀槽（13）、第一纯水槽（14）、金属腐蚀槽（15）、铬腐蚀槽（16）、第二纯水槽（25）和干燥槽（19），所述工艺槽左侧设有用于上下料的操作台（47），所述工艺槽的边缘处设有用于防止操作台（47）上的水流入槽内的止口（46），所述操作台（47）顶部下方设有用来排出操作台（47）表面的液体的小孔（48）。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述操作台（47）左侧设有电机仓（35），所述电机仓（35）固定安装于壳体（1）内壁上，所述电机仓（35）设有电机（36），所述电机（36）通过减速器（37）与旋转轴（38）底端传动连接，所述旋转轴（38）套装在电机仓（35）对应位置设有的轴承（39）上并伸出至机仓外，所述旋转轴（38）上设有支撑臂（40）。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述支撑臂（40）上固定安装有机械臂（41），所述机械臂（41）上设有滑块（43），所述滑块（43）通过螺栓（42）固定于机械臂（41）上，所述滑块（43）底端设有判断位置是否到达预定位置的距离传感器（44），所述滑块（43）底部两端通过螺栓（42）固定安装有用于夹取工件的夹板（45）。

5.根据权利要求2所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述壳体（1）底部左侧设有药液室（31），所述药液室（31）底部设有用于输送药液的风囊泵（29），所述风囊泵（29）右侧设有出液管（30）壁并伸入至工艺槽，所述药液室（31）上方设有废水管（32），所述废水管（32）右侧设有用于回收废液的循环泵（21）并伸入至废液室（22）中，所述废液室（22）固定安装于废液管下方，所述循环泵（21）左侧设有排水口（24），所述排水口（24）上设有用于调节废液抽取快慢的快排阀（23）。

6.根据权利要求2-3任一所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述第一纯水槽（14）和第二纯水槽（25）内部两侧均设有设有用于冲洗工件的喷淋管（26），所述喷淋管（26）上固定安装有喷嘴（27），所述喷嘴（27）套接在喷淋管（26）上，所述工艺槽的右端设有用于烘干的干燥槽（19），所述干燥槽（19）内设有用于加热的加热棒（20）。

7.根据权利要求5所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述工艺槽底部均安装有气动控制阀（33），所述气动控制阀（33）与出液管（30）相连，所述工艺槽底部设有用于药液排放的压力传感器（28），所述工艺槽上方设有槽盖，所述槽盖上设有用于照明的日光灯（12），所述日光灯（12）固定安装于壳体（1）顶部，所述槽盖上设有方便开合槽盖的把手（17）。

8.根据权利要求1所述的一种晶圆片全自动清洗设备，其特征在于，所述控制仓（2）内设有与终端显示器（50）连接的控制器，所述控制器包括主板（51），所述主板（51）上设有MCU（52）和网络模块（53）,所述电控区（6）与MCU（52）连接，MCU（52）通过网络模块（53）与终端显示器（50）连接。