[实用新型]曝光装置有效
申请号: | 202021749020.6 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN212586695U | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 李世波 | 申请(专利权)人: | 深圳市爱普拓思科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02F1/133 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 罗平 |
地址: | 518051 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:
液晶显示掩膜;
控制器,与所述液晶显示掩膜连接,用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案;
光源,设置于所述液晶显示掩膜的一侧,所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光;
其中,所述第二出射光用于照射被曝光物,以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述第一出射光包括紫外光、LED光及激光中的至少一种。
3.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述第一出射光沿垂直于所述液晶显示掩膜的显示图案的表面的方向,照射所述液晶显示掩膜。
4.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,当所述液晶显示掩膜显示预设的图案时,所述第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜表面预设的图案并射出第二出射光。
5.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述第一出射光照射并穿过,所述液晶显示掩膜表面除了所述预设的图案覆盖的区域外的区域时的出射光的强度小于或等于预设的光强阈值。
6.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述液晶显示掩膜包括:
第一基体;
第二基体,与所述第一基体相对设置;
液晶层,设置于所述第一基体与所述第二基体之间,所述液晶层中分布有多个液晶;
其中,所述控制器通过控制所述液晶层中不同区域的液晶的驱动电压值,使得所述液晶显示掩膜显示预设的图案。
7.如权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,所述第一基体为玻璃基板;及/或
所述第二基体为玻璃基板。
8.如权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,所述液晶呈阵列排布。
9.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述第二出射光为平行光,且沿垂直于所述液晶显示掩膜正下方的被曝光物的上表面的方向照射所述被曝光物。
10.如权利要求1-5任一项所述的曝光装置,其特征在于,所述控制器包括台式机、一体机、平板电脑、手机、微控制单元、工控机、智能手表或智能可穿戴设备中的至少一种。
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