[实用新型]一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构有效
| 申请号： | 202021750004.9 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN212542350U | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陆桥宏;任志强;王小艳;何东旺 | 申请（专利权）人： | 无锡展硕科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 电极 结构 | ||
1.一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，包括喷淋头电极盘（1），其特征在于：所述喷淋头电极盘（1）的顶部开设有内腔（2），所述内腔（2）的底部均匀开设有贯穿的喷淋孔（3），所述喷淋头电极盘（1）的顶部外侧设有下安装环（4），所述下安装环（4）的顶部内侧端开设有下密封槽（5）、外侧端周向开设有下安装孔（6），所述喷淋头电极盘（1）的上方设有分配盘（7），所述分配盘（7）的顶部和底部对称开设有球面凹槽（8），所述分配盘（7）的顶部均匀开设有贯穿底部的分配孔（9），所述分配盘（7）的底部外侧设有上安装环（10），所述上安装环（10）的底部内侧端开设有上密封槽（11）、外侧端周向开设有上安装孔（12）。
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，其特征在于：所述喷淋孔（3）和所述分配孔（9）的孔径均为2-5mm。
3.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，其特征在于：所述下密封槽（5）的截面呈弧形结构设置，所述上密封槽（11）的截面呈矩形结构设置，且所述下密封槽（5）和所述上密封槽（11）内安装有密封圈，且所述密封圈的上截面呈矩形结构、下截面呈弧形结构设置。
4.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，其特征在于：所述上安装孔（12）和所述下安装孔（6）之间通过螺栓相连，且所述上安装孔（12）和所述下安装孔（6）设置的数量至少分别为六组，且一一对应设置。
5.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，其特征在于：所述喷淋头电极盘（1）由铝合金导电材质制成，且铝合金导电材质对其表面进行阳极氧化处理。
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