[实用新型]一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构

说明书

本实用新型涉及刻蚀机用刻蚀电极结构技术领域，具体涉及一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，包括喷淋头电极盘，喷淋头电极盘的顶部开设有内腔，内腔的底部均匀开设有贯穿的喷淋孔，喷淋头电极盘的顶部外侧设有下安装环，下安装环的顶部内侧端开设有下密封槽、外侧端周向开设有下安装孔，喷淋头电极盘的上方设有分配盘，分配盘的顶部和底部对称开设有球面凹槽，分配盘的顶部均匀开设有贯穿底部的分配孔，分配盘的底部外侧设有上安装环，本实用新型提供了一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了大多结构单一、仅仅能够起到作为导电电极使用，而不能提高工艺气体分配时的均匀效果，同时安装不方便的问题。

技术领域

本实用新型涉及刻蚀机用刻蚀电极结构技术领域，具体涉及一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构。

背景技术

电介质刻蚀机是半导体芯片加工的关键设备，而电介质刻蚀机中实现晶圆刻蚀芝能的是上、下两个电极组成的电极结构。其中上电极接1000V左右的正电，实现对等离子刻蚀气体的分配和控制功能，下电极与大地连接，不带电荷。处于其中的气体中的分子被上、下两电极间形成高压电场经加速对放置在下电极上的晶圆进行高速轰击，从而产生刻蚀作用。

现有市场上的刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构在进行使用过程中大多结构单一、仅仅能够起到作为导电电极使用，而不能提高工艺气体分配时的均匀效果，同时安装不方便，因此亟需研发一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了大多结构单一、仅仅能够起到作为导电电极使用，而不能提高工艺气体分配时的均匀效果，同时安装不方便的问题。

本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，包括喷淋头电极盘，所述喷淋头电极盘的顶部开设有内腔，所述内腔的底部均匀开设有贯穿的喷淋孔，所述喷淋头电极盘的顶部外侧设有下安装环，所述下安装环的顶部内侧端开设有下密封槽、外侧端周向开设有下安装孔，所述喷淋头电极盘的上方设有分配盘，所述分配盘的顶部和底部对称开设有球面凹槽，所述分配盘的顶部均匀开设有贯穿底部的分配孔，所述分配盘的底部外侧设有上安装环，所述上安装环的底部内侧端开设有上密封槽、外侧端周向开设有上安装孔。

优选的，所述喷淋孔和所述分配孔的孔径均为2-5mm。

优选的，所述下密封槽的截面呈弧形结构设置，所述上密封槽的截面呈矩形结构设置，且所述下密封槽和所述上密封槽内安装有密封圈，且所述密封圈的上截面呈矩形结构、下截面呈弧形结构设置。

优选的，所述上安装孔和所述下安装孔之间通过螺栓相连，且所述上安装孔和所述下安装孔设置的数量至少分别为六组，且一一对应设置。

优选的，所述喷淋头电极盘由铝合金导电材质制成，且铝合金导电材质对其表面进行阳极氧化处理。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型在采用上述的结构和设计使用下，解决了大多结构单一、仅仅能够起到作为导电电极使用，而不能提高工艺气体分配时的均匀效果，同时安装不方便的问题；

而且本实用新型结构新颖，设计合理，使用方便，具有较强的实用性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的正视分解图；

图2是本实用新型中分配板的俯视图；