[实用新型]一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构有效

专利信息
申请号: 202021751227.7 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN212542351U 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 任志强;陆桥宏;王小艳;何东旺 申请(专利权)人: 无锡展硕科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 刻蚀 电极 结构
【权利要求书】:

1.一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,包括下电极托盘(1)和支撑托盘(2),其特征在于:所述下电极托盘(1)的底部设有所述支撑托盘(2),所述下电极托盘(1)的底部和所述支撑托盘(2)的顶部均均匀开设有若干凹槽(3),且上下两侧所述凹槽(3)内放置有多程U型管(4),所述下电极托盘(1)的顶部均匀开设有放置槽(5),所述放置槽(5)的底部轴心处开设有第一吸附孔(6),且所述第一吸附孔(6)贯穿所述下电极托盘(1),所述第一吸附孔(6)相对应的所述支撑托盘(2)上开设有第二吸附孔(7),所述第二吸附孔(7)贯穿所述支撑托盘(2)的顶壁与所述支撑托盘(2)的真空腔相连通,所述支撑托盘(2)的底部开设有与所述支撑托盘(2)的真空腔相连通的连通孔(8)。

2.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述下电极托盘(1)和所述支撑托盘(2)的四角对应设有固定耳板(9),且上下两侧所述固定耳板(9)通过螺栓相固定。

3.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述下电极托盘(1)和所述支撑托盘(2)之间的四周边缘处通过密封焊接设置。

4.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述凹槽(3)和所述放置槽(5)呈交错结构设置。

5.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述多程U型管(4)为高导热铝合金管材质制成,且所述多程U型管(4)的一端与外部冷却水进入管相连通,另一端与外部冷却水排出管相连通。

6.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述放置槽(5)在横向和纵向上均呈八组排列的矩形陈列结构设置。

7.根据权利要求1所述的一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构,其特征在于:所述连通孔(8)与外部真空抽气装置的抽气管相连通。

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