[实用新型]一种掩膜版光学膜贴合治具有效
申请号: | 202021763060.6 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN212433576U | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 林伟;郑宇辰;林超;王伟轶;周荣梵 | 申请(专利权)人: | 成都路维光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;G03F1/38 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 张严芳 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 光学 贴合 | ||
1.一种掩膜版光学膜贴合治具,包括底板(1),其特征在于,还包括内槽(2)、外槽(3)、粘合胶(4)、圆弧挡块(6)和光学膜边框(7),所述底板(1)上设置内槽(2)和外槽(3),所述内槽(2)和外槽(3)均为环形结构,所述内槽(2)为外槽(3)底部向下凹陷形成的凹槽,所述粘合胶(4)为环形条状,所述粘合胶(4)设置在内槽(2)内,所述粘合胶(4)的高度高于内槽(2)的深度并且低于外槽(3)的深度,所述圆弧挡块(6)设置在底板(1)上外槽(3)的四个角外侧,所述光学膜边框(7)安装在外槽(3)内,所述光学膜边框(7)的底部与粘合胶(4)的顶部相贴合。
2.根据权利要求1所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,还包括定位圆柱(5),所述定位圆柱(5)设置在底板(1)的四个角上。
3.根据权利要求1所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,所述外槽(3)的宽度与光学膜边框(7)的宽度一致。
4.根据权利要求1所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,所述圆弧挡块(6)为L形结构。
5.根据权利要求4所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,所述圆弧挡块(6)的两个侧壁的连接处为弧形。
6.根据权利要求1所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,所述粘合胶(4)的宽度比内槽(2)宽度小。
7.根据权利要求1所述的一种掩膜版光学膜贴合治具,其特征在于,所述底板(1)采用亚格力材质制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都路维光电有限公司,未经成都路维光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021763060.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种自粘带浸胶烘干系统
- 下一篇:一种空压机热回收系统
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备