[实用新型]一种掩膜版光学膜贴合治具有效

专利信息
申请号: 202021763060.6 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN212433576U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 林伟;郑宇辰;林超;王伟轶;周荣梵 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: G03F1/48 分类号: G03F1/48;G03F1/38
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 张严芳
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜版 光学 贴合
【说明书】:

实用新型公开了一种掩膜版光学膜贴合治具,包括底板,还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框,所述底板上设置内槽和外槽,所述内槽和外槽均为环形结构,所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽,所述粘合胶为环形条状,所述粘合胶设置在内槽内,所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度,所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧,所述光学膜边框安装在外槽内,所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。本实用新型优点是:减少了人手动贴合产生光学膜的可能性,还提高了产品精度;扩大了可生产产品种类,提高了光学膜的利用率,降低了生产制造成本。

技术领域

本实用新型涉及掩膜版制造技术领域,具体涉及一种掩膜版光学膜贴合治具。

背景技术

掩膜版又称光掩膜版、光罩(Photo mask),由石英玻璃作为基板衬底,首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层,然后在铬层上面涂覆光阻(又称光刻胶,一种感光材料,在特定波长光的照射下其化学性质会发生改变),把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光阻曝光,被曝光的区域通过光阻显影、铬层蚀刻后再形成与设计图一样的电路图形,从而成为类似曝光后的底片的光掩膜母版。近年来国内液晶面板产业发展迅速,从中小尺寸的4.5代到 G8.5、G11等高世代,从普通a-SiTFT到柔性AMOLED,各类新型显示面板产品层出不穷,面板行业的不断创新也带动了光掩膜版产业的发展。

目前,平板显示掩膜版生产主要集中在4.5代、6代、8.5代及10代,其类型可分为CF(彩色滤光片)用掩膜版和TFT-Array(薄膜晶体管阵列)用掩膜版,制造工艺包括光刻、显影蚀刻脱膜、检查、修复、清洗、贴膜等。需要在其表面帖附一层具有高透过率的光学膜,起到阻隔灰尘、颗粒的作用,光学膜也称为防尘罩。掩膜版在使用的过程中需要定期进行检查、清洗。由于上述TFT-Array掩膜版贴附了光学膜,必须对光学膜进行撬除后再清洗,清洗完成后再重新贴附新的光学膜来达到产品使用要求。当人员操作不当或贴膜后膜内面、掩膜版表面出现等异常,都会导致贴膜失败。一旦贴膜失败,由于光学膜边框上的粘合剂极易因外力撕扯而变形或破损,使光学膜在实际生产中只能单次贴合,无法重复使用。此外,如果掩膜版出现问题而必须进行撬膜清洗,这样也会造成光学膜的报废。而目前光学膜的生产制造主要被日韩企业所垄断,因此每一张光学膜的价格非常昂贵,特别是G8.5及G11两种大尺寸掩膜版光学膜,贴膜失败或者撬膜清洗都将造成严重的经济损失。

因此,对于光学膜薄膜完好,只是贴合胶不可再利用的情况,为降低产品生产制造成本,实现掩膜版光学膜的可重复贴合,因此,目的在于提供一种用于提高现有技术中贴膜的成功率并且撬膜清洗后可以正常使用的装置。

实用新型内容

本实用新型目的在于提供一种用于提高现有技术中贴膜的成功率并且撬膜清洗后可以正常使用的装置。

本实用新型通过下述技术方案实现:

一种掩膜版光学膜贴合治具,包括底板,还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框,所述底板上设置内槽和外槽,所述内槽和外槽均为环形结构,所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽,所述粘合胶为环形条状,所述粘合胶设置在内槽内,所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度,所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧,所述光学膜边框安装在外槽内,所述光学膜边框的宽度与外槽的宽度一致,所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。

现有技术是人工贴膜后膜内面、掩膜版表面出现等异常,经常会出现人员操作不当而导致贴膜失败。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都路维光电有限公司,未经成都路维光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021763060.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top