[实用新型]一种多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置

权利要求书

1.一种多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，包括:容器、支撑件和加热组件；

所述容器具有上端开口的容腔；

所述容器上具有第一进液口，所述第一进液口与所述容腔连通，用于输入脱盐水；

所述容器上具有第二进液口，所述第二进液口与所述容腔连通，用于输入碱液；

所述容器的底部设置有排液口，所述排液口与所述容腔连通；

所述支撑件设置在所述容腔内，用于放置氮化硅磁环；所述支撑件被所述容器支撑水平设置；所述支撑件上具有通孔；

所述支撑件位于所述第一进液口和所述第二进液口的下方；

所述加热组件设置在所述容腔内，位于所述支撑件的下方；所述加热组件上具有蒸汽入口，用于蒸汽的进入；所述加热组件上具有蒸汽出口，用于蒸汽的流出。

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述容腔为1个或多个；多个所述容腔阵列设置。

3.根据权利要求2所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

多个所述容腔位于同一水平面。

4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述第一进液口上设置有第一控制阀，用于控制所述第一进液口的液体流量；

所述第二进液口上设置有第二控制阀，用于控制所述第二进液口的液体流量；

所述排液口上设置有排液阀，用于控制所述排液口的通断。

5.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述蒸汽入口上设置有蒸汽进口阀；

所述蒸汽出口上设置有蒸汽出口阀。

6.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述支撑件为格栅孔板；

所述通孔为多个；多个通孔均匀分布在所述支撑件上。

7.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述通孔为圆形或多边形或长条形。

8.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述格栅孔板为多个；多个格栅孔板相互拼接，形成一个矩形板结构。

9.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述容腔的内壁上固定地设置有限位构件，用于支撑所述支撑件；所述支撑件搭设在所述限位构件上。

10.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉用氮化硅陶瓷环的清洗装置，其特征在于，

所述容器的底部设置有底座，以支撑所述容器。