[实用新型]离子过滤装置

说明书

本实用新型涉及一种光阻去除工艺中的离子过滤装置，所述光阻去除工艺在反应腔室内进行，其特征在于，包括：适于放置在所述反应腔室内的多个过滤板，所述多个过滤板沿第一平面相互平行设置，每个所述过滤板上包括多个过滤孔，所述多个过滤板上的过滤孔相互配合形成沿第二方向导通的通孔，至少一个过滤板能够相对于其他过滤板在所述第一平面内移动或旋转以改变所述通孔的大小和位置分布，所述通孔用于阻止所述光阻去除工艺中所产生的离子通过；其中，所述第二方向垂直于所述第一平面。该离子过滤装置可以有效地阻止离子通过，提高了光阻去除过程的效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造工艺领域，尤其涉及一种光阻去除工艺中的离子过滤装置。

背景技术

光刻是在半导体制造工艺中的重要步骤，是一种借助光致抗蚀剂(PR,PhotoResist)(或称光刻胶、光阻)将掩模板上的图案转移到基片上的技术。当图案被转移到基片表面上之后，剩余的光阻将被移除，该移除过程被称为去除过程(Strip Process)。在去除过程中，将具有剩余光阻的基片放置在特定的反应腔室内，向反应腔室输入氧气，氧气在高温、高压的环境下分解生成用来去除光阻的氧自由基，该工艺也被称为灰化工艺。在灰化工艺中还会产生一些离子，由于离子轰击效应会对基片上的器件造成等离子体损伤，因此在反应腔室内部，基片上方一定距离处放置挡板，该挡板用于阻止离子穿过并到达基片，从而减少等离子体轰击效应。然而该挡板上的过滤孔大小固定，挡板的位置也固定，这样的挡板设计不能适用于各种不同的环境因素，不能有效地防止离子穿过，也不利于提高光阻去除过程的效率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种在光阻去除工艺中有效防止离子穿过的离子过滤装置。

本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是一种光阻去除工艺中的离子过滤装置，所述光阻去除工艺在反应腔室内进行，其特征在于，包括：适于放置在所述反应腔室内的多个过滤板，所述多个过滤板沿第一平面相互平行设置，每个所述过滤板上包括多个过滤孔，所述多个过滤板上的过滤孔相互配合形成沿第二方向导通的通孔，至少一个过滤板能够相对于其他过滤板在所述第一平面内移动或旋转以改变所述通孔的大小和位置分布，所述通孔用于阻止所述光阻去除工艺中所产生的离子通过；其中，所述第二方向垂直于所述第一平面。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤板沿所述第二方向彼此之间相互接触。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤板上的多个过滤孔的数量、大小和位置都相同。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤板是大小相同的圆形板。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤板的形状不同。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤孔以所述过滤板的圆心为中心呈放射状分布。

在本实用新型的一实施例中，所述多个过滤孔按照十字型均匀分布在所述过滤板上。

在本实用新型的一实施例中，所述过滤孔是腰型孔。

在本实用新型的一实施例中，还包括连接轴，所述连接轴穿过所述多个过滤板的中心，所述多个过滤板通过所述连接轴彼此活动连接。

在本实用新型的一实施例中，还包括与所述多个过滤板连接的驱动器，所述驱动器用于驱动每个所述过滤板运动到预定位置。

本实用新型的离子过滤装置包括多个相互平行设置的过滤板，多个过滤板相互配合形成通孔，该通孔可以有效地阻止离子通过。该离子过滤装置通过实时地对过滤板的位置进行调整来调整通孔的大小，一方面使该离子过滤装置适于过滤不同大小的离子；另一方面可以向层厚较厚的光阻层处导入较多的反应气体，向层厚较薄的光阻层处导入较少的反应气体，提高了光阻去除过程的效率。

附图说明