[实用新型]涂敷装置有效

专利信息
申请号: 202021794448.2 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN214077581U 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 酒田洋司;佐佐木庆介;土山正志 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: B05C9/14 分类号: B05C9/14;B05C13/02;H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置
【权利要求书】:

1.一种涂敷装置,其特征在于,

该涂敷装置具备:

层叠起来的3个以上的处理模块;

涂敷处理部,其配置于所述3个以上的处理模块中的至少1个处理模块,用于向基板涂敷成膜材料;以及

输送部,其在所述3个以上的处理模块中的连续的3个处理模块输送基板。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

该涂敷装置具备:

第1加热部,其用于加热所述基板;以及

第2加热部,其以比所述第1加热部的温度高的温度加热所述基板,

所述第2加热部配置于所述连续的3个处理模块。

3.根据权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于,

所述连续的3个处理模块配置于比除了所述连续的3个处理模块以外的所述处理模块靠上层的位置。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于,

所述涂敷处理部配置于除了所述连续的3个处理模块以外的所述处理模块,

在所述3个处理模块配置对由所述涂敷处理部涂敷了所述成膜材料之后的所述基板进行处理的处理部。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于,

该涂敷装置还具备显影处理部,该显影处理部对由所述涂敷处理部涂敷了所述成膜材料并由曝光装置实施了曝光处理的所述基板实施显影处理,

所述显影处理部配置于所述连续的3个处理模块中的至少1个处理模块。

6.根据权利要求1~3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于,

所述输送部具备:

保持部,其保持所述基板;

升降部,其使所述保持部升降;以及

水平移动部,其使所述升降部水平移动,

所述升降部具备在高度方向上延伸的升降轴部,

所述水平移动部具备在水平方向上延伸的多个水平轴部,

所述多个水平轴部在不同的高度位置处保持所述升降轴部。

7.根据权利要求6所述的涂敷装置,其特征在于,

所述多个水平轴部包括:

第1水平轴部,其配置于所述连续的3个处理模块中的最下层的处理模块的高度位置;以及

第2水平轴部,其配置于所述连续的3个处理模块中的最上层的处理模块的高度位置。

8.根据权利要求3所述的涂敷装置,其特征在于,

该涂敷装置还具备连续的两个处理模块,该连续的两个处理模块包括所述3个以上的处理模块中的最下层的处理模块,且在内部共有另一输送部,

在所述连续的两个处理模块配置:

多个所述第1加热部,其设置于各处理模块;以及

冷却部,其在所述最下层的处理模块内设置于与多个所述第1加热部相邻的大致中央位置,用于冷却由所述第1加热部加热之前的所述基板或由第1加热部加热之后的所述基板,

所述涂敷处理部配置于所述3个以上的处理模块中的除了所述连续的两个处理模块以外的处理模块。

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