[实用新型]超声波清洗漕结构有效
| 申请号： | 202021823849.6 | 申请日： | 2020-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN213915194U | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 同小刚 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/02;B08B3/06 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 超声波 清洗 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种超声波清洗漕结构，其用于集成电路晶圆金属工艺研磨后清洗，其特征在于，包括：
内槽体，其用于容置清洗液和被清洗晶圆，被清洗晶圆浸泡于清洗液中；
外槽体，其底部形成有内槽体安装孔，内槽体自内槽体安装孔进入外槽体，外槽体与内槽体之间形成容置空间，自内槽体溢出的清洗液能被容置于外槽体和内槽体之间的容置空间；
多个扩散喷嘴，其形成在内槽体的内侧壁，其用于将化学清洗液喷射向其对侧的内槽体侧壁；
其中，每个扩散喷嘴设有独立控制扩散喷嘴控制阀或所有扩散喷嘴设有统一的扩散喷嘴控制阀。
2.如权利要求1所述的超声波清洗漕结构，其特征在于：内槽体和外槽体为长方体。
3.如权利要求1所述的超声波清洗漕结构，其特征在于：扩散喷嘴均匀的形成在内槽体的两侧内侧壁。
4.如权利要求1所述的超声波清洗漕结构，其特征在于：化学清洗液是氨水。
5.如权利要求1所述的超声波清洗漕结构，其特征在于：扩散喷嘴为10个，内槽体的每一侧内侧壁上设有5个扩散喷嘴，各扩散喷嘴之间距离相等。
6.如权利要求1所述的超声波清洗漕结构，其特征在于，还包括：
扩散喷嘴控制阀，其设置于每个扩散喷嘴的进液管路上或所有扩散喷嘴的总进液管路上，其用于控制化学清洗液的流量和喷射时长。
7.如权利要求6所述的超声波清洗漕结构，其特征在于：传感器是红外传感器。
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