[实用新型]一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置

说明书

本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，涉及镀膜设备技术领域，具体为一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，包括镀膜机、真空机，所述镀膜机背面固定安装有集气室，且集气室的左右两侧固定安装有硬质分散管，所述集气室外部的一端螺纹套接有螺纹端盖，且螺纹端盖的背面固定安装有螺纹端盖。该CVD镀膜设备的真空室抽气装置，在真空机对镀膜机内部进行抽真空时，通过在镀膜机外部加装硬质分散管，使镀膜机可以多点进行排气，从而保证在对镀膜机进行抽真空时，镀膜机内部气流分布均匀，从而使镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散均匀，进一步提高了镀膜的效果。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体为一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置。

背景技术

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

在利用真空镀膜设备对工件进行镀膜时，为了获得较好的镀膜效果，真空镀膜设备需加热提供能量，镀膜后炉内会形成粉尘，在抽真空时，粉尘会对真空机的使用寿命有一定的影响，此外，现有的技术中真空镀膜设备的真空腔上往往设置一个抽气口，这样导致在对真空腔内部进行抽真空时，真空腔中的气流分布不均匀，在镀膜时镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散不均匀，导致镀膜效果降低，为此，我们提出一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置以解决上述提高的问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，具有多点排气提高镀膜效果、防止粉尘进入真空机提高真空机使用寿命等优点，解决了上述背景技术中提出的问题。

为实现以上多点排气提高镀膜效果、防止粉尘进入真空机提高真空机使用寿命的目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，包括镀膜机、真空机，所述镀膜机背面固定安装有集气室，且集气室的左右两侧固定安装有硬质分散管，所述集气室外部的一端螺纹套接有螺纹端盖，且螺纹端盖的背面固定安装有螺纹端盖，所述螺纹端盖的背面固定安装有螺纹管，所述集气室的内部螺纹套接有两个压环，且两个压环的内部活动安装有一级过滤棉与二级过滤棉，所述集气室的内部活动安装有位于压环一侧的橡胶垫，所述真空机位于镀膜机的背面，所述真空机的进气口固定安装有硬质连接管，且硬质连接管的外部活动套接有连接套筒，所述连接套筒螺纹套接在螺纹管的外部。

优选的，所述硬质分散管位于镀膜机的左右以及顶部，所述硬质分散管的进气端与镀膜机固定连通。

优选的，所述集气室位于镀膜机背面的中部，所述集气室的外部开设有与螺纹端盖相互配合的螺纹，所述螺纹端盖的截面为多边形。

优选的，所述集气室的内部开设有与压环相互配合的螺纹，所述压环的内部固定安装有均匀分布的转杆。

优选的，所述二级过滤棉的规格大于一级过滤棉的规格，所述一级过滤棉与二级过滤棉的直径值与集气室的内径值相同。

优选的，所述连接套筒的截面为多边形，所述连接套筒的内部活动安装有位于硬质连接管外部的密封垫。

本实用新型提供了一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，具备以下有益效果：

1、该CVD镀膜设备的真空室抽气装置，在真空机对镀膜机内部进行抽真空时，通过在镀膜机外部加装硬质分散管，使镀膜机可以多点进行排气，从而保证在对镀膜机进行抽真空时，镀膜机内部气流分布均匀，从而使镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散均匀，进一步提高了镀膜的效果。