[实用新型]一种等离子增强化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，包括机架(1)，所述机架(1)顶部设置有反应室(2)，所述反应室(2)顶部密封设置有封盖(7)，所述封盖(7)顶部设置有气体分配装置(3)，所述机架(1)侧面上设置有特气箱(4)，所述特气箱(4)通过气管(5)与气体分配装置(3)连接。

2.如权利要求1所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应室(2)包括反应容腔(201)，所述反应容腔(201)一侧开有进料口(207)，所述反应容腔(201)四周面上开有数个观察窗(206)，所述反应容腔(201)内部底面设置有下电极板(202)，所述下电极板(202)上设置有浮动杆(203)，所述下电极板(202)上开有加热槽(204)，所述加热槽(204)内设置有加热丝(205)，所述反应容腔(201)底部密封设置有驱动下电极板(202)升降的升降装置(208)。

3.如权利要求2所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述升降装置(208)包括设置在反应容腔(201)底部的安装架(2081)，所述安装架(2081)内部铺设有平行的轨道(2082)，所述轨道(2082)上设置有滑台(2083)，所述滑台(2083)设置有连接下电极板(202)的升降轴(2088)，所述滑台(2083)上底部连接有丝杆(2084)，所述丝杆(2084)连接有电机(2085)，所述安装架(2081)一侧设置有开口，所述滑台(2083)一侧设置有伸出开口的感应片(2086)，所述安装架(2081)开口处设置有数个传感器(2087)。

4.如权利要求1所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述封盖(7)底面设置有气体扩散板(11)，所述气体扩散板(11)上开有扩散孔(1101)，所述扩散孔(1101)包括进气孔(11011)和出气孔(11013)，所述进气孔(11011)底部开有通气孔(11012)，所述进气孔(11011)和出气孔(11013)通过所述通气孔(11012)进行连通，所述进气孔(11011)的直径大于所述出气孔(11013)的直径，所述进气孔(11011)的长度小于所述出气孔(11013)的长度。

5.如权利要求2所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述进料口(207)处设置有门阀(6)，所述门阀(6)包括设置在进料口(207)处的箱体(601)，所述箱体(601)两侧面上对称开有槽口(6011)，一侧面的所述槽口(6011)处设置有闸门(602)，所述箱体(601)内部位于闸门(602)上方设置有转轴(603)，所述转轴(603)通过连接件(604)与所述闸门(602)连接，所述箱体(601)一端设置有气缸(605)，所述气缸(605)输出端连接有转臂(606)，所述转臂(606)与所述转轴(603)连接。

6.如权利要求1所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述机架(1)一侧设置有真空装置(8)，所述真空装置(8)通过真空管(10)与所述反应室(2)连通，所述真空管(10)通过支撑架(9)进行支撑。

7.如权利要求1所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述气体分配装置(3)包括与气管(5)连接的RPS远程等离子源(301)，所述RPS远程等离子源(301)连接有气体输出模组(302)，所述气体输出模组(302)与所述封盖(7)连通，所述气体输出模组(302)另一侧连接有RF匹配器(303)。

8.如权利要求1所述的一种等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于，所述封盖(7)内部蛇形设置有散热管(701)。