[实用新型]一种带有弹性密封件的涂层装置有效
申请号: | 202021871559.9 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN213388881U | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 王俊锋;袁明;谢文荣;秦兴耀;王锋 | 申请(专利权)人: | 广东鼎泰机器人科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 袁敏怡 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 弹性 密封件 涂层 装置 | ||
本实用新型涉及涂层设备技术领域,尤其是指一种带有弹性密封件的涂层装置,其包括真空罩、液冷载台组件、弹性密封件和真空罩底座冷盘,真空罩底座冷盘密封安装于真空罩的底壁,液冷载台组件包括液冷载台和空心支撑管,空心支撑管滑动设置于真空罩底座冷盘,空心支撑管的上端突伸至真空罩内部并与液冷载台固定连接,真空罩底座冷盘用于对真空罩降温冷却,液冷载台组件用于承载刀具并调整刀具的位置高度,液冷载台和真空罩底座冷盘均为中空结构,冷却液导入液冷载台和真空罩底座冷盘内部以实现冷却,弹性密封件套设于空心支撑管外侧,弹性密封件的一端与空心支撑管远离液冷载台的一端密封连接,弹性密封件的另一端与真空罩底座冷盘密封安装。
技术领域
本实用新型涉及涂层设备技术领域,尤其是指一种带有弹性密封件的涂层装置。
背景技术
热丝CVD(Hot Filament CVD,简称HFCVD)方法具有成本低、设备简单、工艺稳定、适用于复杂形状及大面积沉积的优点,是最适用于金刚石薄膜涂层刀具产业化生产的方法,目前国内外HFCVD金刚石薄膜涂层复杂形状钻头和铣刀正在产业化过程中;在采用HFCVD方法对钻头或铣刀的刀刃部分进行金刚石薄膜沉积时,沉积区域(刀刃区域,基体)的表面温度数值、温度场及反应基团密度场分布均匀性对薄膜质量及均匀性有着很大的影响。用于沉积HFCVD金刚石薄膜的适宜的基体温度区间约为500-1000℃,最适宜区间约为700-900℃。
传统的涂层设备的上料装置通常处于真空高温状态下,为了防止上料装置被烧损,通常会对其进行水冷,但是现有技术中的涂层设备上料装置冷却结构设计不合理,通常真空罩底壁和上料装置较为靠近发热源,导致上料装置和真空罩底壁的工作温度过高,容易被高温烧损,使用寿命短,生产成本高,达不到生产的标准;真空罩与上料装置装配,密封性不足,上料装置动作时真空罩会出现漏气的情况,影响刀具表面的的薄膜沉积效果,良品率低。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种带有弹性密封件的涂层装置,能够有效、快速地对液冷载台和真空罩底壁实现降温,使得液冷载台能够长期处于高温环境下工作,避免液冷载台烧损,还能够加强液冷载台组件与真空罩安装的密封性,刀具表面的的薄膜沉积效果好。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
一种带有弹性密封件的涂层装置,其包括真空罩、液冷载台组件、弹性密封件和真空罩底座冷盘,真空罩底座冷盘密封安装于真空罩的底壁,液冷载台组件包括液冷载台和空心支撑管,空心支撑管滑动设置于真空罩底座冷盘,空心支撑管的上端突伸至真空罩内部并与液冷载台固定连接,真空罩底座冷盘用于对真空罩降温冷却,液冷载台组件用于承载刀具并调整刀具的位置高度,液冷载台和真空罩底座冷盘均为中空结构,冷却液导入液冷载台和真空罩底座冷盘内部以实现冷却,弹性密封件套设于空心支撑管外侧,弹性密封件的一端与空心支撑管远离液冷载台的一端密封连接,弹性密封件的另一端与真空罩底座冷盘密封安装。
进一步地,所述液冷载台组件还包括机架和升降驱动结构,机架固定安装于真空罩底部,升降驱动结构安装于机架并与空心支撑管驱动连接,液冷载台内部设有液冷空腔,空心支撑管与液冷空腔连通。
进一步地,所述升降驱动结构包括固定安装于机架的升降驱动本体以及与升降驱动本体驱动连接的承载架,承载架的一端滑动设置于机架,承载架的另一端与空心支撑管固定安装,升降驱动本体经由承载架驱使空心支撑管和液冷载台的升降,机架上安装有相互平行设置的多个第一导向杆,多个第一导向杆分别穿过承载架,承载架沿着第一导向杆移动。
进一步地,所述液冷载台包括液冷载台本体以及安装于液冷载台本体的承载上盖,承载上盖与液冷载台本体之间设有密封圈,刀具承载于承载上盖。
进一步地,所述真空罩底座冷盘包括密封安装于真空罩底部的冷盘本体以及设置于冷盘本体内部的冷盘空腔,冷盘空腔导入流动的冷却液,以用于冷却冷盘本体,空心支撑管穿过冷盘本体并滑动设置于冷盘本体。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的