[实用新型]具有清洁装置的反应釜有效

专利信息
申请号: 202021878618.5 申请日: 2020-09-01
公开(公告)号: CN213611331U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 刘一;徐骏;史建民;陈代红;王耀国 申请(专利权)人: 宁波锋成纳米科技有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B08B9/087
代理公司: 宁波甬致专利代理有限公司 33228 代理人: 李迎春
地址: 315500 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 具有 清洁 装置 反应
【权利要求书】:

1.一种具有清洁装置的反应釜,包括反应釜釜体(1),所述反应釜釜体(1)的外顶部中部固定有驱动电机(2),所述驱动电机(2)的转轴(21)伸入在反应釜釜体(1)中,所述转轴(21)下部的外壁上固定有若干搅拌杆(3),所述反应釜釜体(1)的顶部设置有人孔(11),其特征在于:所述反应釜釜体(1)的内部设置有清洁刷(4),所述清洁刷(4)的背部固定有第一连杆(5),所述转轴(21)上部的外部套装有固定环(6),所述固定环(6)与转轴(21)固定,所述第一连杆(5)远离清洁刷(4)的一端与固定环(6)的外壁面铰接,所述第一连杆(5)的中部铰接有第二连杆(7),所述第二连杆(7)与转轴(21)之间设置有限位结构。

2.根据权利要求1所述的具有清洁装置的反应釜,其特征在于,所述限位结构包括由铁材料制成的滑环(81),所述滑环(81)套装在转轴(21)的外部且与转轴(21)滑动连接,所述第二连杆(7)远离第一连杆(5)的一端与滑环(81)的外壁面铰接,位于滑环(81)上方的转轴(21)的外部套装有第一磁环(82),所述第一磁环(82)与转轴(21)固定,位于滑环(81)下方的转轴(21)的外部套装有第二磁环(83),所述第二磁环(83)与转轴(21)固定,所述滑环(81)上移并与第一磁环(82)磁性相吸时,所述清洁刷(4)向上转动并脱离反应釜釜体(1)的内壁面,所述滑环(81)下移并与第二磁环(83)磁性相吸时,所述清洁刷(4)向下转动并与反应釜釜体(1)的内壁面相贴。

3.根据权利要求2所述的具有清洁装置的反应釜,其特征在于,所述清洁刷(4)包括弧形板状的刷体座(41),所述第一连杆(5)朝向清洁刷(4)的一端与刷体座(41)的背部固定,所述刷体座(41)的外端面上可拆式地安装有若干个沿刷体座(41)延伸方向分布的刷毛座(42),所述刷毛座(42)远离刷体座(41)的一端固定有若干刷毛(43)。

4.根据权利要求3所述的具有清洁装置的反应釜,其特征在于,位于每个刷毛座(42)所在位置处的刷体座(41)的外端面上均设置有“T”字形的插槽(411),所述刷毛座(42)朝向刷体座(41)的一端与插槽(411)配合插紧。

5.根据权利要求2所述的具有清洁装置的反应釜,其特征在于,所述滑环(81)远离第二连杆(7)一侧的外壁面上一体成型有拉环(811)。

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