[实用新型]具有清洁装置的反应釜有效
申请号: | 202021878618.5 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN213611331U | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 刘一;徐骏;史建民;陈代红;王耀国 | 申请(专利权)人: | 宁波锋成纳米科技有限公司 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B08B9/087 |
代理公司: | 宁波甬致专利代理有限公司 33228 | 代理人: | 李迎春 |
地址: | 315500 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 清洁 装置 反应 | ||
本实用新型揭示一种具有清洁装置的反应釜,包括反应釜釜体,反应釜釜体的外顶部中部固定有驱动电机,驱动电机的转轴伸入在反应釜釜体中,转轴下部的外壁上固定有若干搅拌杆,反应釜釜体的顶部设置有人孔,反应釜釜体的内部设置有清洁刷,清洁刷的背部固定有第一连杆,转轴上部的外部套装有固定环,固定环与转轴固定,第一连杆远离清洁刷的一端与固定环的外壁面铰接,第一连杆的中部铰接有第二连杆,第二连杆与转轴之间设置有限位结构;本实用新型能够通过机械化的方式实现对反应釜釜体内壁中靠近顶部的位置的残留物进行清理,与传统采用人工清理的方式相比,能够提高对残留物的清理效果,且能够降低工作人员的劳动强度。
技术领域
本实用新型涉及反应釜技术领域,具体涉及一种具有清洁装置的反应釜。
背景技术
高分子聚合物的主要生产工序是在反应釜内进行合成反应的,即需要在一定的温度和压力条件下进行。由于高分子聚合物具有一定的粘度,高分子聚合物在经反应釜搅拌时,聚合物会溅起并粘附在反应釜内壁中靠近顶部的位置,在反应釜内的温度、压力条件下,此部分聚合物中的溶剂会迅速挥发,并与反应釜形成较强的粘附力,这样一来,高分子聚合物在生产完成后,会在反应釜内壁形成一层较难清理的残留物,且在生产下一批次产品时就必须把残留物清除,目前对于该残留物的清理一般是通过人工向反应釜内注入水和清洁剂之后再通过清洁刷进行清理,存在清理效果不佳和费时费力的缺点。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种具有清洁装置的反应釜,其能够通过机械化的方式实现对反应釜釜体内壁中靠近顶部的位置的残留物进行清理,与传统采用人工清理的方式相比,能够提高对残留物的清理效果,且能够降低工作人员的劳动强度。
本实用新型的具有清洁装置的反应釜,包括反应釜釜体,反应釜釜体的外顶部中部固定有驱动电机,驱动电机的转轴伸入在反应釜釜体中,转轴下部的外壁上固定有若干搅拌杆,反应釜釜体的顶部设置有人孔,反应釜釜体的内部设置有清洁刷,清洁刷的背部固定有第一连杆,转轴上部的外部套装有固定环,固定环与转轴固定,第一连杆远离清洁刷的一端与固定环的外壁面铰接,第一连杆的中部铰接有第二连杆,第二连杆与转轴之间设置有限位结构。
本实用新型的具有清洁装置的反应釜,其中,限位结构包括由铁材料制成的滑环,滑环套装在转轴的外部且与转轴滑动连接,第二连杆远离第一连杆的一端与滑环的外壁面铰接,位于滑环上方的转轴的外部套装有第一磁环,第一磁环与转轴固定,位于滑环下方的转轴的外部套装有第二磁环,第二磁环与转轴固定,滑环上移并与第一磁环磁性相吸时,清洁刷向上转动并脱离反应釜釜体的内壁面,滑环下移并与第二磁环磁性相吸时,清洁刷向下转动并与反应釜釜体的内壁面相贴;通过采用这种限位结构后,当滑环上移并与第一磁环磁性相吸时,清洁刷能够向上转动并脱离反应釜釜体的内壁面,此时,在驱动电机带动转轴和搅拌杆转动时,反应釜可进行对高分子聚合物的搅拌;当滑环下移并与第二磁环磁性相吸时,清洁刷能够向下转动并与反应釜釜体的内壁面相贴,这样一来,在驱动电机带动转轴转动时,转轴能够带动清洁刷周向转动,即清洁刷能够实现对反应釜釜体的内壁的清洁。
本实用新型的具有清洁装置的反应釜,其中,清洁刷包括弧形板状的刷体座,第一连杆朝向清洁刷的一端与刷体座的背部固定,刷体座的外端面上可拆式地安装有若干个沿刷体座延伸方向分布的刷毛座,刷毛座远离刷体座的一端固定有若干刷毛;通过采用这种结构的清洁刷后,由于刷毛座与刷体座可拆式连接,这样一来,当刷毛老化或变形后,可以方便地将刷毛座从刷体座上拆卸下来,并更换上新的带有刷毛的刷毛座即可,也即具有刷毛和刷毛座更换方便的优点。
本实用新型的具有清洁装置的反应釜,其中,位于每个刷毛座所在位置处的刷体座的外端面上均设置有“T”字形的插槽,刷毛座朝向刷体座的一端与插槽配合插紧;通过采用这种结构后,具有刷毛座和刷体座拆卸和装配方便的优点。
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