[实用新型]标准式离子镀膜系统

权利要求书

1.一种标准式离子镀膜系统，其特征在于，包括主体模块和电源模块；

所述主体模块包括主体框架、电控柜、镀膜室以及抽真空泵组，所述电控柜连接所述主体框架并形成主体骨架，所述主体骨架内部形成容置空间，所述镀膜室和所述抽真空泵组位于所述容置空间内；

所述抽真空泵组和所述镀膜室分别与所述电源模块电连接。

2.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述主体骨架呈长方体状，且所述主体骨架的长度不大于10m、宽度不大于2.3m、高度不大于2.7m。

3.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述主体骨架内形成有走线槽。

4.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述主体模块还包括门体，所述门体转动连接于所述主体框架的一端。

5.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述主体模块还包括控制屏，所述控制屏转动连接于所述主体骨架的侧部，以使所述控制屏能够相对所述主体骨架展开或与所述主体框架相贴合。

6.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述主体模块和所述电源模块为分体式结构。

7.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述抽真空泵组包括粗抽泵组和精抽泵组，所述粗抽泵组和所述精抽泵组分别与所述镀膜室相连通。

8.根据权利要求7所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述镀膜室、所述粗抽泵组和所述精抽泵组沿所述容置空间的长度方向顺次排布。

9.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述电控柜的数量为多个，多个所述电控柜分布于所述主体框架的宽度方向的两侧。

10.根据权利要求1所述的标准式离子镀膜系统，其特征在于，所述电源模块括多个电源柜。